Gebraucht SEMITOOL SST-614-AG #9043971 zu verkaufen

SEMITOOL SST-614-AG ist eine Photoresist-Ausrüstung für Waferbearbeitungsanwendungen. Es ist eine eigenständige Einheit, die speziell entwickelt wurde, um Photolacklösungen auf Siliziumwafern aufzubringen und zu entwickeln. Kernkomponenten dieses Instruments sind eine Wafer-Transferstation, Spin-Spray-Track, Klarbad-Track, Spin-Sprayer und ein Allmighty-Track. Die Wafer-Transferstation ermöglicht es einem Bediener, einzelne Wafer manuell aus dem System zu laden oder zu entladen. Diese Übergabestation ermöglicht eine vertikale und horizontale Verstellung zur Orientierung der Wafer. Die Spin Spray Track wurde entwickelt, um eine präzise Spin-Ausgabe der Photolacklösung auf den Wafer zu ermöglichen. Dadurch entsteht eine gleichmäßige Beschichtung des Photolacks, die ein gleichmäßiges Profil auf den Wafer ergibt. Die Clear Bath Track besteht aus einem einzigen Gefäß, das mit einer wässrigen oder nicht-wässrigen Entwicklerlösung gefüllt ist und als Waschstation fungiert. Der Sprühapplikator innerhalb der Badbahn sorgt für eine gleichmäßige Ausbreitung der Entwicklerlösung über den Wafer, um eine effizientere Fotoentwicklung zu ermöglichen. Die Spin Spray-Spur kann auch in Verbindung mit der Clear Bath Track verwendet werden, um ein einheitliches Photolackprofil auf dem Wafer zu erstellen. Schließlich ist die Allmighty-Bahn dafür verantwortlich, Resist-Rückstände aus dem Spin-Spray innerhalb der Einheit zu sammeln und zu entsorgen, um Spültanks außerhalb der Einheit zu reinigen. Es ist eine Filtermaschine, die auch eine Kapazität von bis zu zwölf Standard 200mm Wafer hat. Abschließend ist SST-614-AG ein komplettes Photolackbearbeitungswerkzeug zur Entwicklung von Photolacklösungen auf Siliziumscheiben. Es ist mit vielen Funktionen ausgestattet, darunter eine Wafer-Transferstation, eine Spin-Spray-Strecke, eine klare Badstrecke, ein Spin-Sprayer und eine Allmighty-Strecke, um eine einheitliche und effiziente Verarbeitung zu gewährleisten. Diese Photoresist-Anlage kann die Produktionsraten verbessern und optimale Ergebnisse für Photoresist-Verarbeitungsanwendungen gewährleisten.