Gebraucht SEMITOOL SST-C-221-280-P #9400640 zu verkaufen
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ID: 9400640
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Spray solvent system, 8"
(3) Chambers (2-Heated)
2001 vintage.
SEMITOOL SST-C-221-280-P ist eine präzise Photoresist-Ausrüstung, die speziell für das Ätzen, Beschichten und Entwickeln von integrierten Schaltungen entwickelt wurde. Dieses System verfügt über mehrere Komponenten zur präzisen Steuerung des Photolackanwendungsprozesses. Das Gerät besteht aus einem hochmodernen SST-C-221-280-P Photolacksprühgerät, einer Quarzlampe zur präzisen Belichtungssteuerung und einem Spinnprozessor mit rezirkulierender Sprühkammer. SEMITOOL SST-C-221-280-P Photoresist Sprayer ist entworfen, um präzise Mengen an Photoresist bei vorbestimmten Durchflussraten und Drücken zu liefern. Dies geschieht durch eine automatisierte Steuerung, die mit bestimmten Sprühparametern programmiert ist. Dies ermöglicht gleichmäßigere Teile mit höchster Qualität. Die Quarzlampe für den Einsatz mit SST-C-221-280-P Maschine bietet eine präzise Kontrolle über Belichtungszeiten und Intensität. Dadurch wird sichergestellt, dass Photoresist weder überbelichtet noch unterbelichtet wird. Die Intensität und Belichtungszeit kann leicht eingestellt werden, um das Verfahren für verschiedene Photolackformulierungen zu optimieren. Der in SEMITOOL SST-C-221-280-P enthaltene Spin-Prozessor enthält fortschrittliche automatische Steuerungen, die eine präzise Bearbeitungsgeschwindigkeit und Temperaturregelung bieten. Strategisch montierte Strahlen im Spinnprozessor sprühen einen feinen Photolacknebel auf das Substrat, der dann bei optimaler Temperatur verarbeitet wird. Das Design des Prozessors minimiert den Verlust von Photolack und bietet eine dynamische Umgebung für präzise und wiederholbare Verarbeitungsbedingungen. SST-C-221-280-P photoresist ist die perfekte Wahl zum Ätzen, Beschichten und Entwickeln integrierter Schaltungen. Die Kombination aus präzise gesteuerten automatisierten Prozessen sowie die präzise Steuerung der Belichtung und Verarbeitung liefern zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse. Darüber hinaus stellt die Fähigkeit des Modells, verschiedene Photoresist-Formulierungen zu verwenden, sicher, dass es in einer Vielzahl von Anwendungen verwendet werden kann.
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