Gebraucht SEMITOOL SST-C-221-280-PB #9408953 zu verkaufen

SEMITOOL SST-C-221-280-PB ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine überlegene Leistung und überlegene Prozesssicherheit bei der Verarbeitung in fortschrittlichen Lithographieverfahren bietet. Das System ist eine vollautomatische, voll funktionsfähige Photolackverarbeitungslösung, die einstufige und mehrstufige Prozesse mit mehreren Substratkonfigurationen ausführen kann. Das Gerät nutzt eine vollautomatische Substratlademaschine und ist in der Lage, bis zu fünf Rezeptsätze für verschiedene Prozesse zu speichern. Das Werkzeug verfügt über hochwertige Materialien, Komponenten und Engineering-Praktiken, um überlegene Leistung, Wiederholbarkeit und Prozesssicherheit zu gewährleisten. Die Anlage verwendet patentierte Gas-Liefertechnologie, um den Photolack gleichmäßig auf die Substratoberfläche zu verteilen und die manuelle Streuung zu vermeiden. Ein einzigartiges Zweipumpenmodell wird verwendet, um eine gleichmäßige Verteilung des Photolacks über das Substrat zu gewährleisten und gleichzeitig einen konsistenten und wiederholbaren Prozess zu ermöglichen. Das Gerät ist in der Lage, Wafergrößen von bis zu 6 Zoll Durchmesser und mit einer maximalen Dicke von 200 um zu verarbeiten. Das System verwendet eine voll integrierte Quarzkristall-Monitor-Einheit, um die Wafer-Ebene Photolackdicke zu messen und die Gleichmäßigkeit der Photolackschicht zu überwachen. Die Maschine verfügt auch über ein Echtzeit-Inspektionswerkzeug, das es dem Benutzer ermöglicht, die Photolackschicht während des Ablaufs zu überwachen. SST-C-221-280-PB ist auch mit einer hohen Dichte, Tieftemperatur-Backfähigkeit ausgestattet, die wiederholbare Prozessbedingungen gewährleistet und eine konsistente Beständigkeit gegen Musterung und Backen gewährleistet. Die Anlage ist zudem mit zwei Heizstufen und zwei Kühlstufen ausgestattet, die eine präzise Prozesssteuerung ermöglichen. Insgesamt ist SEMITOOL SST-C-221-280-PB ein fortschrittliches Photolackmodell, das eine hervorragende Leistung, Prozesssicherheit und Wiederholbarkeit bietet. Das Gerät ist für fortschrittliche Lithographie-Prozesse konzipiert und ermöglicht eine Reihe von Prozessparametern, die für die spezifische Anwendung angepasst werden können. Das System verwendet hochwertigste Materialien, Komponenten und Engineering-Praktiken, um überlegene Leistung, Wiederholbarkeit und Prozesssicherheit zu gewährleisten. Das Gerät ist in der Lage, Wafer bis zu 6 Zoll Durchmesser und 200 um Dicke zu verarbeiten. Die Maschine verfügt auch über integrierte Quarzkristallmonitor und In-Prozess-Inspektionssysteme, um überlegene Leistung und Prozesssicherheit zu gewährleisten.