Gebraucht SEMITOOL SST-C-421-280 #9144801 zu verkaufen

SEMITOOL SST-C-421-280 ist eine vollautomatische Photolackausrüstung bestehend aus zwei Bearbeitungskammern, die bis zu 161 Wafer in einer Last verarbeiten können und als Einkammer- oder Zweikammersystem arbeiten können. Die Bearbeitungskammern sind aus gehärtetem Edelstahl gefertigt und verfügen über einen einstellbaren 3-Zonen-Präzisionsregler und Prozesszeitgeber zur Optimierung der thermischen Gleichmäßigkeit und des Gesamtdurchsatzes. Die erste Kammer weist eine Fotobildstrecke auf, die einen hochauszahlenden vakuumgefalteten Linsenscanner (VFL) mit niedriger Verzerrung verwendet, um eine optimale Waferabdeckung zu erreichen. Dieser Scanner bewegt sich mit 7 bis 60 mm pro Sekunde über die Waferoberfläche, um maximale Genauigkeit und Durchsatz zu ermöglichen. Der Prozesskopf der bildgebenden Maschine kann von 600mm bis 600 mJ/cm reichen ² für eine bessere Kontrolle von Bildkantenprofilen und Steigleitungen. Diese Strecke verfügt zudem über einen einstellbaren Heizraum für Bearbeitungszeiten von bis zu 60 Minuten, der ideal für die Abbildung längerer Waferstrukturen geeignet ist. Um eine maximale Flexibilität zu erreichen, ist die zweite Kammer in der Lage, einzelne Wafertauch- und Sprühentwicklungszyklen auszulösen. Das Immersion Development Tool besteht aus einer höhengesteuerten Plattform (Height-Controlled Platform, HCP) und Jet Pump Overlay, um Teileschäden zu minimieren und eine überlegene Teileabdeckung zu bieten. Das HCP ist zur Steuerung des Teiledurchsatzes von 0,2 bis 4 cm in Z-Achse einstellbar und mit vielen Lösungsmitteln wie H2O2, Phosphorsäure und anderen kompatibel. Die Sprühentwicklung wurde für eine optimale Genauigkeit und Wiederholbarkeit konzipiert und bietet ein überlegenes Nivellierungsprofil mit minimalen Verzerrungen und Teileschäden. Sie ermöglicht es der Sprühdüse, sich sowohl in X- als auch in Y-Richtung zu bewegen, was ein kreisförmiges oder x-y-z-Sprühen ermöglicht, und kann bis zu fünf Sprühentwicklungszyklen pro Wafer liefern. Schließlich bietet das Modell auch einen optionalen Single Wafer Dryer (MWD) zur Trocknung kritischer Prozesse. Dieser leistungsstarke, aber energieeffiziente Trockner verwendet mehrere Wärmestrahler, um den Wafer gleichmäßig auf eine Temperatur von 90 ° C zu erwärmen, um maximale Temperaturgleichförmigkeit und geringe thermische Beanspruchung zu erreichen. Abschließend ist SEMITOOL SSTC421280 eine vollautomatisierte Photolackausrüstung, die maximale Flexibilität und optimale Genauigkeit bietet. Seine doppelte Verarbeitungskammer ist ideal für die Verarbeitung von bis zu 161 Wafern in einer Last, während seine hohe Auszahlung niedrige Verzerrung vaku gefaltete Linse Scanner, Immersion-Entwicklungssystem und einzelne Wafer Trockner alle helfen, überlegene Ergebnisse mit minimalen Teileschäden zu liefern.