Gebraucht SEMITOOL SST-C-621-270 #9177160 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9177160
Wafergröße: 3"-4"
Weinlese: 1995
Batch solvent spin rinse dryer, 3"-4"
Cassette
Pumps / Tanks
1995 vintage.
SEMITOOL SST-C-621-270 ist eine Photolackausrüstung, die für Halbleiteranwendungen entwickelt wurde. Es ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Prozessströmen konzipiert, die die Verarbeitung von Wafern mit Photoresists beinhalten. Das System bietet hohe Prozesswiederholbarkeit, hohen Durchsatz und Zuverlässigkeit sowie geringe Wartungsanforderungen. Die Einheit besteht aus einem elektrisch steuerbaren 621-Kanal Ausgabekrümmer, der eine präzise und genaue Durchflussregelung ermöglicht. Dies ermöglicht eine strikte Prozesskontrolle von Chemikalien, die auf die Waferoberfläche geliefert werden. Eine Prozesskammer ermöglicht die gleichzeitige Beladung von Wafern und einem einstückigen Quarzboot für den Massentransport von Chemikalien in die Maschine. Das Werkzeug ist auch mit zwei Temperaturregelmodulen ausgestattet, um eine präzise Temperaturregelung von Photolacklösungen zu ermöglichen und die Variabilität der Prozesse zu minimieren. Das Asset verfügt außerdem über ein 270-Positionen-Spinnfutter, das eine stabile Plattform für Präzisionsprozesse bietet, einschließlich Spin Coating, Pre-Soft-Bake und Post-Development. Zur schnellen Trocknung der Photolackschichten wird eine oberhalb des Vakuumfutters angeordnete UV-Lampe verwendet. Aus Sicherheitsgründen umfasst das Modell ein Emergency Off (EO) und eine bordeigene Abgasanlage zur Steuerung der Freisetzung gefährlicher Partikel in der Luft. Nicht zuletzt verfügt SST-C-621-270 über eine grafische Benutzeroberfläche (GUI), mit der Benutzer das System anzeigen und steuern können. Die GUI macht das Gerät einfach zu bedienen und ermöglicht es Benutzern, die Maschine schnell einzurichten und zu überwachen, um ihren Prozess zu optimieren. Abschließend ist SEMITOOL SST-C-621-270 ein hocheffizientes, zuverlässiges und benutzerfreundliches Fotolackwerkzeug, das eine präzise und präzise Bearbeitung von Wafern mit Photoresists ermöglicht.
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