Gebraucht SEMITOOL SST-C-632-280-KM #9276685 zu verkaufen

SEMITOOL SST-C-632-280-KM Photoresist ist eine komplette Nassbankreinigungs- und Photoresist-Bearbeitungslösung für Geräteherstellungsanforderungen. Es wurde entwickelt, um die Waferaufbereitung, die Substratreinigung, die Photolackbeschichtung und die Entwicklungsprozesse zu automatisieren und gleichzeitig eine vollständige Prozesskontrolle zu gewährleisten. Das System verfügt über einen automatischen Substrattransport und eine modulare, vom Benutzer konfigurierbare Abfolge von Prozessschritten. SST-C-632-280-KM Reinigungseinheit besteht aus mehreren Spültanks, einem Tensidreinigungsmodul, DI-Wasserspülung und einem Prozessständer zur wässrigen oder lösemittelbasierten Reinigung. Die automatisierten Spültanks verfügen über eine peristaltische Pumpenmaschine, die die Tanks schnell füllt und ableitet und gleichzeitig dem Bediener ein Leistungsrückmeldung gibt. Das Tensidreinigungsmodul dient zur Reinigung der Substratoberflächen mit einer Kombination aus sauren, alkalischen und aminischen Tensiden. Die DI Wasserspülung liefert ultrareines Spülwasser für eine Endreinigung. Zum Aufbringen des Photolackmaterials auf die Substratoberfläche gehört auch ein Resist-Coater. Der Coater ist für wiederholbare, gleichmäßige Resistbeschichtungen mit unterschiedlichen Dicken ausgelegt. Es kann für Schleuderbeschichtungen, Sprühbeschichtungen oder kaskadierte Schleuderverfahren ausgelegt sein. Der Coater verfügt über fortschrittliche Temperatur- und Strömungssensoren, um die Prozesskontrolle aufrechtzuerhalten Die Entwicklungskapazität umfasst integrierte Heizplatten zum Vorbacken und Nachbacken, eine Spül- und Trockenstation zum Entfernen von Restfotoresist aus dem Wafer sowie eine hochgenaue Temperatur- und Feuchtigkeitskontrollstrecke für kritische Entwicklungsschritte. Zur Optimierung der Prozesssteuerung kann ein flexibler, anwenderkonfigurierbarer Ablauf von Entwicklungsprozessen eingerichtet werden. SEMITOOL SST-C-632-280-KM Photoresist-Modell ist für Arbeitsabläufe mit führenden Resistmaterialien konzipiert und vollständig kompatibel mit bestehenden und neuen Photomasken-Geräten. Es bietet eine einfach zu bedienende Schnittstelle mit vorprogrammierten Prozessabläufen sowie die Möglichkeit, benutzerdefinierte Prozessabläufe zu erstellen. Das Gerät bietet eine zuverlässige Plattform, um wiederholbare, qualitativ hochwertige Geräteherstellungsergebnisse zu erzielen.