Gebraucht SEMITOOL SST-C-6422-5060-U #9279870 zu verkaufen

SEMITOOL SST-C-6422-5060-U Photoresist Equipment ist ein integriertes Prozesssystem für die Herstellung von Halbleiterchips. Diese Einheit wurde entwickelt, um Silizium-Wafer mit lichtempfindlichen Materialien genau zu beschichten, weich zu backen, zu entwickeln und zu backen. Es eignet sich für verschiedene Photolackverfahren, einschließlich Lithographie, Photolithographie, Lift-off, Lötmaskierung und selektives Ätzen. Das Photoresist-Maschinenmodell besteht SST-C-6422-5060-U aus vier unabhängigen Waferkammern: Soft-bake, Coater, Developer und Hard-bake. Jede Kammer ist in einem Kammerboden untergebracht, der eine kontrollierte Umgebung aufnehmen und aufrechterhalten kann. Ein integrierter Duschkopf sorgt für eine präzise und gleichmäßige Beschichtung von Wafern mit Photolack. Das Werkzeug ist auch mit Heizungen, Kältemaschinen, Vakuumniveaus und Auspuffmöglichkeiten ausgestattet. Die Weichbackkammer behält eine exakt kontrollierte Temperatur und Umgebung bei, um die Oberfläche des Wafers vor dem Aufbringen von Photoresist vorzubereiten. Die Coater Pump ist eine genaue Filtration, die eine gleichmäßige und konsistente Beschichtung des Photolacks gewährleistet. Die Entwicklerkammer ist temperaturgesteuert, so dass der Photolack aushärten und polymerisieren kann. Die Hartbackkammer verwendet Heizungen, um das in den Weichback- und Entwicklerkammern aufgebrachte Photolackmaterial zu härten. Das Modell umfasst auch eine Vielzahl von digitalen Bedienelementen, einschließlich einfach zu navigierender Touchscreens sowohl für die Gerätesteuerung als auch für die Programmierung. Dies ermöglicht eine programmierbare Rezeptspeicherung und -abfrage, wobei die Prozessparameter jeder Kammer auf 0,1% genau sind. Das System bietet auch volle Konnektivität mit SEMITOOL Design Software für Prozess-Parameter-Upload. Die Photolackeinheit SEMITOOL SST-C-6422-5060-U verfügt über eine bewegungsgesteuerte Fördermaschine zur präzisen chemischen Abgabe, eine hochpräzise schwimmende Düse, die eine gleichmäßige Beschichtung liefert, und ein hochpräzises chemisches Förderwerkzeug. Dieser Vorteil bietet auch Prozessstabilität und Substratgleichförmigkeit bei jeder Wiederholung. Zusammenfassend ist SST-C-6422-5060-U Photolackmodell eine präzise, vielseitige und benutzerfreundliche integrierte Prozessausrüstung für die Herstellung von Halbleiterchips. Es ist in der Lage, Siliziumscheiben mit lichtempfindlichen Materialien mit präzisen Prozessparametern zu beschichten, weich zu backen, zu entwickeln und zu backen und bei jeder Wiederholung Genauigkeit und Konsistenz zu gewährleisten.