Gebraucht SEMITOOL SST-F-421-280-F #9276688 zu verkaufen

SEMITOOL SST-F-421-280-F
ID: 9276688
Spray solvent system Organic peeling cleaning machine.
SEMITOOL SST-F-421-280-F ist ein Photoresist-Gerät, das entwickelt wurde, um die Strukturierung integrierter Schaltkreise auf einem Siliziumwafer genau zu steuern. Dieses System verfügt über ein vierachsiges Portal und eine dreiachsige Stufe, um die genaue Ausrichtung zu gewährleisten, die für die genaue Strukturierung von Schaltkreisen erforderlich ist. Die Gantry hält einen Spin-Coater und Wafer-Dispense-Roboter, während die Bühne in der Lage ist, die Position des Wafers relativ zum Spin Coater und Dispense-Roboter genau zu steuern. Photoresist ist eine lichtempfindliche chemische Verbindung, die auf die gedruckte Siliziumscheibe aufgebracht wird und bei Belichtung eine strukturierte elektrische Isolationsschicht erzeugt, die Schaltungen voneinander isoliert. Die Photolackeinheit verwendet eine Kombination aus Hochleistungslasern, optischen Systemen und fortschrittlichen Steuerungsalgorithmen, um die Belichtung des Fotolackes genau zu steuern. SEMITOOL SSTF 421280F Maschine beherbergt auch einen Spin-Prozessor, mit dem der Wafer mit hohen Geschwindigkeiten gesponnen werden kann, wodurch dünne, gleichmäßige Schichten von Photolack über der bedruckten Oberfläche erzeugt werden. Darüber hinaus ist das Werkzeug sowohl mit nassen als auch trockenen Photoresist-Prozessen kompatibel, sodass es mit verschiedenen Photoresist-Typen wie Positivton, Negativton und natürlichem Winkel verwendet werden kann. Zur Unterstützung des Photoresist-Prozesses umfasst die Anlage auch mehrere Prozessüberwachungsmerkmale, wie ein automatisches Temperiermodell, einen Präzisionshefter für gleichmäßige Belichtung und einen Oberflächenverunreinigungsmonitor. Des Weiteren sind auch mehrere Qualitätssicherungs- und Fehlererkennungsmerkmale enthalten, wie eine In-situ-Fehlerinspektion und eine integrierte Prozesskontrolleinrichtung. Sobald der Musterprozess abgeschlossen ist, kann das System dann in Verbindung mit Photolithographie- und Ätzprozessen verwendet werden, um die gewünschten Schaltungsmuster zu erzeugen. Die Kombination der Funktionen SST-F421-280-F Einheit macht es zu einer der effektivsten Lösungen für die präzise Strukturierung anspruchsvoller integrierter Schaltungen auf Silizium-Wafern.
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