Gebraucht SEMITOOL SST #9009453 zu verkaufen
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ID: 9009453
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1995
Spray solvent tool, 6"
System has non-heated isopropyl / Acetone tanks
Primarily acetone clean
Metal lift off
Develop type processes
Cart base: 30" x 22"
Tank: 18" x 20" x 13"
Level sensor
TREBOR 110 Diaphragm pump
Dual hand brakes
Liquid level sight display
Pump missing
Power: 208V, 40A, 3 Phase, 60Hz
1995 vintage.
SEMITOOL SST Photoresist Equipment ist eine hochmoderne Lösung für die präzise Schablonierung mikroelektronischer Komponenten. Mit fortschrittlichen Fähigkeiten kann SST Photoresist System hochpräzise Muster erstellen, die zur Herstellung komplexer Leiterplatten und anderer Submikron-Schaltungskomponenten verwendet werden können. SEMITOOL SST Photoresist Unit arbeitet durch Aufbringen einer selektiv belichteten Schicht Photoresist auf eine Substratplatte mittels Photoschablonierung. Dieses Verfahren wird dadurch erreicht, daß das Substrat einer Lichtquelle hoher Intensität ausgesetzt wird. Je nach Photoresiststärke kann entweder ein Elektronenstrahl oder eine UV-Lichtquelle verwendet werden. Die Lichtquelle dringt in die Photolackschicht ein und härtet Moleküle bis zum gewünschten Muster auf dem Substrat aus. Zur Erzeugung der Schablone wird das Substrat durch einen Raumförderer mit einem Förderband geführt, das das Substrat entlang der Belichtungsstation antreibt. Nach Belichtung des Photolacks wird das Substrat mit einer verträglichen Chemikalie entwickelt, um die belichteten Bereiche des Photolacks zu entfernen. Die nicht belichteten Bereiche bleiben erhalten, wodurch das gewünschte Muster auf dem Substrat entsteht. Nach der Entwicklung wird das strukturierte Substrat in einem Ofen erhitzt, um den Photolackmaschinenprozess abzuschließen. Der Ofen entfernt die unbelichteten Teile des Photolacks und hinterlässt das gewünschte Muster auf dem Substrat. SST Photoresist Tool enthält eine Reihe von wichtigsten Funktionen, um konsistente qualitativ hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten. Das Asset verfügt über eine präzise Bewegungssteuerung für einen reproduzierbaren Schablonenprozess, eine hochauflösende motorisierte Bühne für genaue Belichtung und eine benutzerfreundliche Touchscreen-Schnittstelle. Das Modell bietet auch optionale Module für automatisiertes Wafer Handling und Capping. Darüber hinaus ist die SEMITOOL SST Photoresist Equipment Software für Hochgeschwindigkeits-Mustertechniken konzipiert, die eine schnelle Einrichtung und Prozessoptimierung ermöglichen. SST Photoresist System ist eine ausgezeichnete Wahl für die Herstellung hochkomplexer mikroelektronischer Komponenten. Durch die Kombination der neuesten Technologien mit benutzerfreundlicher Software ist diese Präzisions-Photoresist-Einheit in der Lage, hochzuverlässige Submikron-Muster für eine breite Palette von Substraten zu erzeugen.
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