Gebraucht SEMITOOL SSTC-632280 #293616250 zu verkaufen

SEMITOOL SSTC-632280 Photoresist Equipment ist ein automatisiertes Nassverfahren, mit dem eine dünne Schicht eines photoempfindlichen Materials namens Photoresist auf ein Substrat eines bestimmten Materials aufgebracht wird, das dann einer gewünschten Lichtintensität ausgesetzt wird. Das Photolacksystem besteht aus mehreren Komponenten, darunter einer Lösungsmittelabgabeeinheit, einer Sprühdüse, einer Reaktionskammer und einer Photolackabscheidekammer. Die Lösungsmittelabgabemaschine dient dazu, der Sprühdüse eine gewünschte Menge Lösungsmittel zuzuführen. Damit soll sichergestellt werden, dass der Photolack im richtigen Volumen auf das Substrat aufgesprüht wird. Die Sprühdüse fügt einen kritischen Verfahrensschritt hinzu, wenn sie den Photolack in feine Partikel zerstäubt, die dann gleichmäßig auf das Substrat aufgebracht werden. Die Reaktionskammer ist auch als Gas- oder Dampfkammer bekannt und dient zur Steuerung der Umgebung, in der der Photoresist abgeschieden wird. Diese Kammer steuert den Druck, die Temperatur und die in der Atmosphäre vorhandene Sauerstoffmenge, die sich alle auf die Gleichmäßigkeit und Genauigkeit der Photoresistschicht auswirken. Die Photolackabscheidungskammer ist eine geschlossene Kammer, die das Substrat aufnimmt und in der der Photolack versprüht wird. Die besondere Ausbildung der Kammer ermöglicht eine konstante Temperatur, Druck und Sauerstoffatmosphäre während des Abscheidungsprozesses. Der letzte kritische Verfahrensschritt ist die Belichtung des Substrats mit einer Lichtquelle. Dadurch wird sichergestellt, daß die Photolackschicht die gewünschte Empfindlichkeit für die gewünschte Lichtintensität aufweist. Nach Beendigung dieses Prozesses wird die Photolackschicht dann gegebenenfalls ausgehärtet und anschließend vom Substrat entfernt. SSTC-632280 Photolackwerkzeug ist ein zuverlässiges und automatisiertes Nassverfahren, das typischerweise in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es ist eine ideale Lösung für eine Vielzahl von Anwendungen von Photolithographie bis Dünnschichtsolarzellen. Mit seinen genauen und konsistenten Ergebnissen ist das Asset eine der führenden Lösungen für die Photoresist-Abscheidung.