Gebraucht SEMITOOL SSTF 421270F #9265379 zu verkaufen

SEMITOOL SSTF 421270F Photoresist Equipment ist eine neue Sprühfotoresist-Plattform, die einen erhöhten Durchsatz und eine verbesserte Prozesssteuerung bietet. Das von SEMITOOL entwickelte System nutzt die Spray-On-Resist-Technologie für die schnelle und genaue Abscheidung von Photolackmaterial auf Substraten. Das Gerät arbeitet mit bis zu 60 "(152 cm) Bahnbreite und bietet volle Automatisierung mit dynamischer Rezeptsteuerung. Die Maschine erfordert eine minimale Bedienerinteraktion, um die Prozesskonsistenz zu erhalten und die Erträge zu verbessern, da sie automatisierte Resistflussdensitometrie und Gleichmäßigkeitsmessungen ermöglicht. Der Aufsprühresistprozess findet in der Sprühkammer des Werkzeugs statt. Die Sprühkammer enthält eine Sprühpistole, die eine genaue Menge an Photolack auf das Substrat abgibt, wie durch das Prozessrezept angegeben. Dieses präzise Aufbringen von Resist verfestigt die Resistschicht zu einer kompakten Folie, die das Substrat gleichmäßig bedeckt und Verschmutzungen oder Aufbauten verhindert. Sobald Resist angewendet wurde, ermöglicht die Rezirkulationsschleife des Vermögenswertes die Wiederverwendung von ungenutztem Photoresist, um Materialabfälle zu reduzieren. SSTF 421270F verfügt auch über ein integriertes Vision-Alignment-Modell, das das Substratmuster auf Fehlstellungen oder Defekte scannt, so dass der Bediener Echtzeit-Layout-Korrektur durchführen kann. Die hochauflösenden Kameras sorgen für volle Abdeckung über dem Substrat ohne manuelle Maskenausrichtung. Ein modernes Reinigungssystem ermöglicht darüber hinaus eine erhöhte Automatisierung und verbesserte Prozesskontrolle, da es die Verwendung einer Vielzahl verschiedener Chemikalien zur Reinigung des Substrats vor und nach der Sprühbeschichtung ermöglicht. Die Sauberkeit des Gerätes wird über einen bordeigenen Partikelsensor und einen in situ Ozongenerator überwacht. SEMITOOL SSTF 421270F ist zudem mit einer intelligenten Prozesssteuerungsmaschine ausgestattet, die Prozessgrößen automatisch identifiziert und die Sprühparameter entsprechend anpasst. Diese Automatisierung reduziert die Eingabe des Bedieners erheblich, optimiert und standardisiert die Resistschicht. Um die empfindliche Resistschicht weiter zu optimieren, umfasst SSTF 421270F eine feuchtigkeitskontrollierte Umgebung, die ein konstantes Feuchtigkeitsniveau aufrechterhält. Dadurch, dass die Sprühumgebung für das Substrat ordnungsgemäß konditioniert ist, kann das Werkzeug verhindern, dass die Resistschicht schrumpft oder erweicht. Insgesamt ist SEMITOOL SSTF 421270F eine fortschrittliche, automatisierte Sprühfotoresist-Plattform, die einen erhöhten Durchsatz, eine verbesserte Prozesssteuerung und eine präzise Resistschichtbildung bietet. Durch die integrierte Vision Alignment Asset, automatisiertes Reinigungsmodell, intelligente Prozesssteuerung und Feuchtigkeitskontrolle hilft die Ausrüstung, Erträge zu maximieren und Schrott zu reduzieren. Als solches ist SSTF 421270F eine Lösung der nächsten Generation für diejenigen, die ein optimales Photolacksystem benötigen.