Gebraucht SEMITOOL SSTF221280MBT #293628579 zu verkaufen

SEMITOOL SSTF221280MBT ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung für den Einsatz in einer Vielzahl von Photolithographie- und Waferbearbeitungsanwendungen. Es verfügt über ein innovatives Design, das eine präzise Steuerung der Lichtbelichtung und optischen Eigenschaften ermöglicht, einschließlich Optimierung für Dunkelfeld und Hellfeld-Anwendungen. Mit seinen leistungsstarken Verarbeitungs- und Befehlsfunktionen bietet dieses System eine kostengünstige und effiziente Lösung für eine Vielzahl von Front-End-Halbleiteranwendungen. Herzstück von SSTF221280MBT ist seine SSTF-21200MP Photolackeinheit, die neben der notwendigen Optik auch eine integrierte Partikelentfernungsmaschine und ein Vakuumwerkzeug umfasst. Dieses leistungsstarke Photoresist-Asset bietet die Fähigkeit, präzise und schnell mit einer breiten einstellbaren Blende und Feinabstimmung der Belichtungsparameter zu autofokus, um den Durchsatz zu maximieren. Der Autofokus bietet eine klare Sichtlinie mit der vorherigen Linse, wodurch Verzerrungen aus dem bildgebenden Modell eliminiert werden. Zusätzlich können mehrere Resistschichten mit der laserbasierten Beleuchtungseinrichtung verarbeitet werden. SEMITOOL SSTF221280MBT verfügt zudem über ein integriertes Waferunterstützungssystem, das für bis zu drei Wafergrößen und -dicken konfiguriert werden kann. Die Wafer-Transporteinheit erspart manuelles Wafer-Handling und minimiert das Bruch- oder Verschmutzungspotenzial. SSTF221280MBT wurde entwickelt, um mit einer Reihe von Photoresist-Materialien zu arbeiten, einschließlich Krylon, Terbin und Amin-Typen. Die Maschine unterstützt sowohl den Backmodus nach der Belichtung als auch vor der Belichtung und bietet Benutzern die Flexibilität, den Prozess zu konfigurieren, um den Durchsatz zu maximieren und Fehler zu minimieren. Der Vorbelichtungs-Backmodus ermöglicht die schnelle Verarbeitung mehrerer Photolackschichten mit einem einzigen Substrat. SEMITOOL SSTF221280MBT integriert sich in eine Vielzahl von Partikelentfernungssystemen für optimale Waferreinheit. Dieses Tool verfügt über automatisierte Vorreinigungs-, Nachreinigungs- und Wischfunktionen. Die Reinigungslösung wird durch eine Düsenentlüftung im oberen Teil der Anlage mit einstellbaren Durchflussraten aufgebracht, wodurch eine effektive Reinigung und Trocknung der freiliegenden Waferoberfläche gewährleistet ist. SSTF221280MBT enthält auch ein intuitives Bedienfeld, mit dem Bediener Funktionen einfach einstellen, Parameter überwachen und schnelle Implementierungsänderungen vornehmen können. Das Panel verfügt über eine integrierte Anzeige der Belichtungs- und Prozesseinstellungen, die eine effiziente und intuitive Anpassung zur Optimierung der Waferproduktion ermöglicht. Insgesamt ist SEMITOOL SSTF221280MBT ein hochentwickeltes Photolackmodell, das eine zuverlässige, effiziente und kostengünstige Lösung für eine Vielzahl von Front-End-Halbleiteranwendungen bietet. Mit seinem integrierten Gerätedesign, leistungsstarken Optik- und Verarbeitungsfähigkeiten, einem effizienten Reinigungsschema und einem intuitiven Bedienfeld bietet dieses System Anwendern ein verbessertes Maß an Kontrolle und Durchsatz für ihre Photolithographie- und Waferbearbeitungsprojekte.