Gebraucht SEMITOOL ST 260 #293621582 zu verkaufen

SEMITOOL ST 260 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die speziell für maskenlose Lithographie und Lithographie-Prototyping entwickelt wurde. Mit diesem System können Anwender schnell und effizient Photomasken und Prototypen mit hoher Auflösung und Präzision produzieren. Zu den Grundkomponenten der Einheit gehören eine strahlungsresistente optische Plattform, eine Strahlungsquelle, eine computergesteuerte Stufe und eine Dateneingabe-/-ausgabemaschine. Die strahlungsresistente optische Plattform ist ein elektronisch überwachtes und programmierbares Werkzeug, mit dem Benutzer die Parameter des optischen Strahls und die Position der maskenlosen Lithographie-Komponenten genau einstellen können. Es umfasst auch verschiedene Optiken, einschließlich eines digitalen Mikroskops, die eine hochauflösende Abbildung der maskenlosen Lithographieschicht ermöglichen. Die Strahlungsquelle ist eine Xenon-Bogenlampe und ein proprietäres optisches Gut, das das Licht der Lampe fokussiert und kollimiert. Die computergesteuerte Bühne ist so ausgelegt, dass Komponenten des maskenlosen Lithographiemodells exakt entlang der x-Achse, y-Achse und z-Achse bewegt werden können, wodurch eine präzise Positionierung und Ausrichtung der Komponenten auf die optische Plattform ermöglicht wird. Die z-Achse ermöglicht auch die Höhenverstellung der Plattform für präzise Fokussierung und Bildgebung, die für hochauflösende Photomasken und Lithographie-Prototypen unerlässlich sind. Das Dateneingabe-/-ausgabegerät besteht aus benutzerfreundlicher Software und Steuerungskonsole, die es den Anwendern ermöglicht, den maskenlosen Lithographieprozess zu programmieren, Maskendaten in verschiedenen Formaten hochzuladen, die Belichtung zu steuern sowie Vor- und Nachbearbeitungsvorgänge. Das System kann auch über RS232/USB Kommunikation ferngesteuert und in übergeordnete Test-, Mess- und Automatisierungssysteme integriert werden. SEMITOOL ST-260 ist eine zuverlässige, zuverlässige und effiziente Photolackeinheit, die sich ideal für maskenlose Lithographie und Lithographie-Prototyping eignet. Diese Maschine bietet hochauflösende Bildgebung, präzise Positionierung, benutzerfreundliche Software und vollständige Werkzeugintegration, so dass Anwender schnell Prototypen hochwertiger Photomasken und Lithographie-Designs erstellen können.