Gebraucht SEMITOOL ST 260 #9263895 zu verkaufen

SEMITOOL ST 260 ist eine Photolackausrüstung, die in der Halbleiterindustrie verwendet wird, um vielseitige Anwendungen wie Waferreinigung, Resiststreifen und Sputterreinigung durchzuführen. Dieses System kann 2-Zoll oder 4-Zoll-Wafer unterstützen. Es besteht aus vier Komponenten: einem Nassverarbeitungsschrank, einer chemischen Prozesskartusche, einer Spülstation und einer DI-Wassermaschine. Der Nassverarbeitungsschrank ist für die zuverlässige Bearbeitung von Wafern mit Abscheideprozessen ausgelegt, die eine Reihe von Chemien, Temperaturen und Drücken erfordern. Es verfügt über ein effizientes Design für eine schnelle thermische Steuerung sowie erweiterte Sicherheitsfunktionen wie automatische Dampf- und Durchflussüberwachung. Der Temperaturbereich des Gehäuses liegt zwischen 5 ° C und 85 ° C bei einer Temperaturgleichförmigkeit von ± 2 ° C. Chemische Prozesskartuschen ermöglichen es Benutzern, ihre Wafer mit einer breiten Palette von Chemikalien und Temperaturen zu verarbeiten. Die Spülstation ermöglicht hochpräzise Waferspül- und Mischvorgänge bis zu acht Wafer gleichzeitig. Das DI-Wasserwerkzeug produziert konsequent DI-Wasserqualität für die wichtigsten Photoresist-Prozesssteuerungen. Für die Entfernung von Fotoresist ist SEMITOOL ST-260 mit fortschrittlicher Resiststreifen-Technologie konzipiert. Das Asset kann bis zu 2- oder 4-Zoll-Wafer verarbeiten. Das Verfahren wird bei 1310 nm oder bei kürzeren Wellenlängen sowohl für Diffusion als auch für Photoresist Stripping durchgeführt. Bandgeschwindigkeit und Temperatur sind für optimale Ergebnisse programmierbar. Thermische Hoch- und Herunterfahrmöglichkeiten minimieren die Temperaturüberschreitung. Für Photoresist-Anwendungen ist das Modell auch mit fortschrittlicher Sputter-Clean-Technologie konzipiert. Dieses Verfahren kann chemische und Partikelreste vor der Resistbeschichtung von Waferoberflächen entfernen. Der Temperaturbereich für die Sputterreinigung beträgt bis zu 215 ° C bei einer Reinigungszeit von bis zu 45 Minuten. ST 260 ist eine zuverlässige Photolackverarbeitungsanlage für eine Vielzahl anspruchsvoller Nanotechnologieanwendungen. Die erweiterten Funktionen des Systems ermöglichen es Anwendern, konstant qualitativ hochwertige Ergebnisse zu produzieren, während seine Benutzerfreundlichkeit es für jede industrielle Prozesslinie geeignet macht.