Gebraucht SEMITOOL ST 260D #9208974 zu verkaufen

ID: 9208974
Spin rinse dryer.
SEMITOOL ST 260D photoresist ist ein System zur präzisen Strukturierung von mikroelektronischen Komponenten und anderen empfindlichen Geräten. Es ist für Lithographieverfahren konzipiert, die höchste Genauigkeit und Geschwindigkeit erfordern. Das Gerät ist so konzipiert, dass es überlegene Leistung und Zuverlässigkeit in der anspruchsvollen Umgebung der Halbleiter- und Elektronikindustrie bietet. SEMITOOL ST-260D Photoresist-Maschine verwendet modernste Bildgebungs- und Optiktechnologie, um überlegene Druckqualität und -auflösung zu bieten. Es bietet fortschrittliche Strukturierungsfunktionen mit variablem Durchmesser und hoher Dichte, die sich ideal für die Entwicklung kompliziertester Chip-Designs eignen. Das Werkzeug bietet auch erhöhte Genauigkeit und Durchsatz auch bei sehr hohen Linienbreiten und dichten Mustern. Das Asset wird von einem fortschrittlichen Controller und Arbeitsstationen angetrieben, so dass eine schnelle und einfache Einrichtung und Bedienung ermöglicht. Der Controller wurde entwickelt, um den gesamten Photolithographie-Prozess zu optimieren, vom Rezept-Setup bis zur Ausrichtung und Maskierung. Es verfügt über ein automatisiertes Wafer-Level, High-Definition, Multi-Station-Optimierungsmodell mit anspruchsvollen, dynamischen datengesteuerten Berechnungen und Kontrollen. ST 260 D Photoresist-Geräte bieten eine breite Palette von Funktionen, die ein hohes Maß an Kontrolle und Flexibilität ermöglichen. Dazu gehören variable Laserleistung, 120 μ m Laser-Fokussierungsfunktionen, hochauflösende Datenerfassung und genaue Resistmaskierungsfunktionen. Das System ist auch in der Lage, dynamische und intensive Siebdruck- und alkalische Entwicklungsprozesse zu verwalten, die höchste Genauigkeit und Präzision ermöglichen. ST 260D Photolackeinheit kann mit einem umfangreichen Zubehör und Optionen konfiguriert werden. Dazu gehören eine automatisierte Vision-Alignment-Maschine, eine motorisierte Stepper-Z-Achse sowie eine Durchlauf- und Waschstation zur Verarbeitung temperaturempfindlicher Substrate. ST-260D Photoresist-Tool bietet eine zuverlässige und zuverlässige Lösung für hochwertige Lithographie- und Musteranforderungen. Es wurde für fortgeschrittene Patterning-Anwendungen in unternehmenskritischen Branchen wie Halbleiter- und Elektronikdesign und -herstellung entwickelt und ist eine ideale Wahl für Anwendungen, die extrem genaue und wiederholbare Ergebnisse erfordern.
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