Gebraucht SEMITOOL ST 270D #9246163 zu verkaufen

SEMITOOL ST 270D ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für höchste Präzision in der Wafer-Photomasken-Verarbeitung entwickelt wurde. Dieses System ist eine 6-Achsen-Einheit mit der Fähigkeit, verschiedene Substrate in einem Bereich dreidimensionaler axialer Positionen zu positionieren und zu bewegen. Es hat eine obere Ladekassettenkapazität von bis zu 50 Wafern und kann Waferdurchmesser zwischen 100 und 200 mm unterstützen. Die Maschine ist auch mit einer Reihe von Plasmaquellen ausgestattet, die Oberflächenaktivierung, Aschen und Ätzen unterstützen. ST 270D ist in der Lage, photolithographische Schritte durchzuführen, die Beschichtung, Belichtung und Entwicklung umfassen. Es unterstützt eine Vielzahl von Photoresists, einschließlich positiver, negativer und Dualtonresistenzen, und kann mit einer Vielzahl von Wellenlängen wie trockenem, tiefem UV (Wellenlängen zwischen 365 und 375 Nanometern) und I-Linie (Wellenlängen zwischen 365 und 410 Nanometern) arbeiten. Darüber hinaus unterstützt das Werkzeug auch die Spin-on-Abscheidung, Maskenverdampfung und fortgeschrittene Trockenätzverfahren. Das Gut ist in der Lage, Wafer kontrolliert zu reinigen und neutral zu waschen, um sicherzustellen, dass der Photolack vor der Belichtung völlig frei von Verunreinigungen ist. Es hat auch eine fortschrittliche Energieabscheidungssteuerung (EDC), die eine einheitliche Oxidätzung und eine Reihe von Plasmaquellen zur Unterstützung von Ätzen, Oxidation und Abscheidung bietet. Darüber hinaus verfügt es über ein hochpräzises Bewegungsmodell, das Photomasken und Wafer in einer Reihe von Größen genau positionieren kann und eine präzise Strukturierung ermöglicht. SEMITOOL ST 270D verfügt zudem über eine integrierte OPC-Workstation, in der Anwender regelbasierte Designoptimierungen durchführen können, um lithographische Fehler zu minimieren und die Druckbarkeit zu verbessern. Dieses System ist zudem mit der Software MaskEdit ausgestattet, die eine optimale Belichtungsmodulationssteuerung ermöglicht. Schließlich bietet die Einheit erweiterte Ertragsanalysetools, mit denen lithographierelevante Prozessvariablen aus einer Vielzahl von Quellen identifiziert, quantifiziert und rektifiziert werden können.