Gebraucht SEMITOOL ST 440 #9194043 zu verkaufen
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ID: 9194043
Wafergröße: 4"
Spin rinse dryer, 4"
Includes:
Rotors
Static eliminator
Resistivity monitor
Water recirculator.
SEMITOOL ST 440 ist eine Photolackausrüstung, die für die Verwendung in der Halbleiterverarbeitung entwickelt wurde. Dieses System ist in der Lage, eine Resistschicht auf zahlreiche Substrate aufzubringen, darunter Silizium, Siliziumgermanium, Galliumnitrid und Aluminiumgalliumarsenid. ST 440 verfügt über eine vielseitige Plattform, die eine breite Palette von Belichtungs- und Entwicklungsoptionen bietet, darunter Direktprojektion (DP), Kontaktausrichter (CA) und Bildumkehr (IR). Die Vielseitigkeit des Geräts macht es für die meisten Produktions-Photolithographie-Prozesse geeignet. SEMITOOL ST 440 ist mit einer Ladeschloßkammer zum Be- und Entladen von Substraten ausgestattet. Es verfügt über einen sechsachsigen Roboterarm, um die Bewegung des Wafers von einer Ein- und Ausladestation in die Bearbeitungskammer zu erleichtern. Der Arm kann sogar den Wafer reinigen, nachdem er in die Bearbeitungskammer überführt wurde. Zusätzlich ist ein mechanischer Arm vorhanden, um eine genaue und präzise Handhabung des Substrats zu gewährleisten. Die Photoresist-Maschine weist einen digitalen Mustergenerator auf, der eine Vielzahl von Formen und Liniendichten über die Resistschicht erzeugen kann. Auf den Mustergenerator kann entweder mit einem 2D- oder 3D-Bild zugegriffen werden. Das Werkzeug ist auch mit einer Laserquelle zur Bildgebung und Ausrichtung ausgestattet. Die Laserquelle verfügt über eine Wellenlänge von 400 - 430 nm und eine Auflösung von 5 Mikrometern. ST 440 verwendet eine Beleuchtungseinrichtung, die zwischen dem LED-Modus (Light Emmitting Diode) für Anwendungen mit geringer Leistung und dem Flutlichtmodus für Anwendungen mit hoher Leistung wählen kann. Dieses Beleuchtungsmodell ist mit einer Präzisionsstufe gekoppelt, die manuell angepasst wird, um eine genaue Positionierung der Resistschicht zur Belichtung zu ermöglichen. Die Bühne ist mit einem Joystick Griff und einem Encoder entworfen, um maximale Genauigkeit zu gewährleisten. Die Anlage enthält eine dreistufige Entwicklungskammer, die Lösungsmitteldampfentwicklung, nasse Prozessentwicklung und Spülung nach der Entwicklung ermöglicht. Auf diese Weise entfällt die Notwendigkeit des Transfers oder der Probenverzerrung vor dem Postprozess. Die Temperatur der Heizplatte in der Kammer wird über ein PID-Verfahren mit einer Genauigkeit von +/-1 Grad Celsius gesteuert. Das entwickelte Muster kann mit einem telezentrischen Mikroskop gemessen und inspiziert werden. SEMITOOL ST 440 kann verschiedene Substrate und Dicken bis 200 Mikrometer dick handhaben. Es ist in der Lage, einen schnellen und wiederholbaren Produktionsprozess für die Verarbeitung von integrierten Schaltungen (IC) zu ermöglichen. Dieses System ist mit einer Benutzeroberfläche ausgestattet, die eine einfache Anpassung der Einstellungen und Parameter an spezifische Anforderungen ermöglicht. Es ist auch mit Sicherheitsfunktionen entworfen, um die Sicherheit des Benutzers, des Substrats und der Ausrüstung zu gewährleisten.
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