Gebraucht SEMITOOL ST 470 #9207419 zu verkaufen

SEMITOOL ST 470 ist eine leistungsstarke, voll ausgestattete Photolackausrüstung, die eine breite Palette von präzisen Beschichtungs-, Entwicklungs- und Strippdienstleistungen bietet. Dieses System ist perfekt für Fabriken, die sowohl auf starren als auch flexiblen Substraten hergestellt werden. Die ST 470 ist mit einem Rasterelektronenmikroskop (SEM), einem Photoresist Coater, einer integrierten Vorläufereinheit und einem Spin-Prozessor für eine optimale Steuerung und Präzision des Photolithographie-Prozesses ausgestattet. Das SEM der Maschine ermöglicht eine sehr detaillierte Untersuchung der Probenoberflächen, die eine dynamische Steuerung der Photomaskenform, -größe und anderer Verarbeitungsparameter ermöglicht. Hierdurch wird eine präzise Schnittstelle zwischen Halbleiterbauelement, Substrat und Photomaske gewährleistet. Das hochauflösende optische Mikroskop kann auch die Flachheit des Substrats leicht bestimmen sowie eine schnelle Diagnose und Überprüfung des Photolithographieerfolgs ermöglichen. Das integrierte Vorläufer-Tool bietet eine präzise Lieferung von Photoresist oder Entwickler, so dass eine höhere Genauigkeit und Kontrolle sowohl über die Entwicklungszeit und Prozess. Dazu gehören ein internes Reservoir für die Chemikalien sowie ein intelligenter Chip, der die Flüssigkeitsmenge verfolgt, die verwendet wird, um Zeit zu sparen und Abfälle zu reduzieren. Darüber hinaus verfügt der SC 470 sowohl über einen Spin-Prozessor als auch über einen automatisierten Entwickler mit automatischer Zustellung von Entwicklerlösung über die Proben. Dadurch wird sichergestellt, dass die Entwicklungszeit für einheitliche Ergebnisse immer konsistent und genau ist. SEMITOOL ST 470 enthält auch eine hochgenaue Heizplatte, die eine präzise Echtzeiteinstellung der Temperatur für eine optimale Leistung der Resistfolie ermöglicht. Die Heizplatte arbeitet in Verbindung mit der integrierten Luftkühlung des Modells, um eine präzise Temperaturregelung zu gewährleisten, die eine präzise Prozess- und Filmdickenkontrolle auch auf anspruchsvollen Substraten ermöglicht. Das Gerät verfügt außerdem über ein FOUP-Be-/Entladesystem, das die Bewegung von Wafern automatisiert und Zeit und Aufwand spart. Die FOUP Be-/Entladeeinheit ist zudem mit einem organisierten Wafer-Tray mit integrierten Sensoren zur automatisierten Überwachung und Erhaltung der Waferposition innerhalb jeder Gruppe ausgestattet. ST 470 ist eine fortschrittliche Photoresist-Maschine mit überlegener Genauigkeit und Kontrolle für alle Photolithographie-Prozesse. Mit seiner Reihe von Funktionen kann dieses Werkzeug eine effizientere und wiederholbare Verarbeitung für Dünnschicht-Halbleiterbauelemente jeder Größe bieten.