Gebraucht SEMITOOL STI 860 #293757364 zu verkaufen

ID: 293757364
Spin Rinse Dryer (SRD).
SEMITOOL STI 860 ist eine fortschrittliche Photolackverarbeitungsanlage für Anwendungen in der Halbleiterindustrie. Das System umfasst eine Hardwareplattform und Softwarekomponenten für die Photolackverarbeitung und -entwicklung und bietet Anwendern eine umfassende Lösung für die Vorbereitung von Substraten und Photomasken für die Photolithographie. STI 860 besteht aus einer nassen Bank, einer Spur und verschiedenen Konfigurationen von Photolithographie-Modulen (spiralförmig oder linear). Die Nassbank ist eine Edelstahl-Arbeitsfläche mit Ablauf- und Spülstellen zur Bearbeitung und Entwicklung von Fotomasken. Zusätzlich enthält die Bank einen Entlüftungskanal zur Erschöpfung der Atmosphäre von chemischen Dämpfen. Das Gleis beherbergt die Module, die jeweils ein Photolackmodul, ein Entwicklermodul und eine Trocknungsstation enthalten. Das Photolackmodul besteht aus einem Spinnfutter, einer Substratzentrierstation und einem Tank, der eine Photolacklösung enthält. Das Entwicklermodul ist mit einem Spinnfutter, einem Entwicklerlösungsbehälter und einer Trocknungsstation ausgestattet. Die Trocknungsstation kann so eingestellt werden, dass verschiedene Substrattypen und Konfigurationen möglich sind. SEMITOOL STI 860 ist mit einer Vielzahl von Funktionen entworfen, um eine sichere und effiziente Fotolackverarbeitung zu ermöglichen. Die Einheit ist mit einem Waferzuführer, einem Trägerlader und einem Waferentlader ausgestattet, um die Bearbeitungszeit zu reduzieren und den Maschinendurchsatz zu verbessern. Zusätzlich ist das Werkzeug mit rückseitiger Verschmutzungssteuerung und einer Substrat-Integritätsprüfstation ausgestattet, um eine ordnungsgemäße Verarbeitung von Substraten sicherzustellen. STI 860 ist eine zuverlässige und zuverlässige Photolackverarbeitung für die Halbleiterindustrie. Mit seinen vielfältigen Funktionen sorgt das Modell für einen schnellen und sicheren Photolackprozess. Das Gerät eignet sich ideal für Anwendungen wie Photomaskenentwicklung, Waferdefektinspektion und Lithographie.
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