Gebraucht SEMITOOL WSST-408A #9401359 zu verkaufen

SEMITOOL WSST-408A Photoresist Equipment ist ein vollautomatisches Wafer-Nassstreifensystem. Diese Einheit wurde entwickelt, um Photolack aus einzelnen Wafern in einer kontrollierten Atmosphäre mit programmierbaren und prozessgesteuerten Stripplösungen zu entfernen. Die Maschine kann bis zu 400mm Wafer in Größen wie 8,12 oder 15 Zoll (200,300 oder 350mm) handhaben. Das Werkzeug umfasst einen Vorratsbehälter, der 40 Liter Stripplösung und eine temperaturgesteuerte Dosierpumpe mit vier Kanälen und fünf Rührmagneten aufnimmt. Die chemische Dosierung wird mit einem digitalen Pumpenregler genau gesteuert, während ein programmierbarer Controller die Programmschritte verwaltet. Die Edelstahl-Reaktionskammer ist mit vier konzentrierenden Schotten und einer P21 Luftzirkulation sowie einer UV/Ozon-Lampe und Gaseinspritzsystemen ausgestattet. Ein automatisiertes Wafer-Handling-Modell transportiert Wafer in und aus der Reaktionskammer. Das Gerät verfügt auch über eine TurboX Vakuumpumpe für automatisierte Flüssigkeits- und Gasabgase. WSST-408A können Photoresist mit einer Vielzahl von Lösungen streifen, wie Salzsäure, Schwefelsäure, Ammoniumhydroxid, Kaliumpersulfat und Wasserstoffperoxid. Es ist auch in der Lage, Wafer bei Temperaturen bis zu 60 ° C abzutrennen, wodurch ein höherer Grad an Waferoberflächenreinheit und eine höhere Fähigkeit zum Streifen schwieriger Resists ermöglicht. Das Endergebnis ist höhere Gleichmäßigkeit, erhöhte Ausbeuten und größerer Durchsatz. Das System ist auf Prozessflexibilität mit einer einfachen Software-Benutzeroberfläche ausgelegt, die es dem Bediener ermöglicht, Parameter für veränderte Prozessbedingungen anzupassen. Die breite Reihe von Eigenschaften, die durch das HALBWERKZEUG angeboten sind, WSST-408A Einheit macht es eine ideale Wahl für den ertragsreichen, photowidersteht Abstreifenprozessen.