Gebraucht SEMITOOL WSST-806A #9269858 zu verkaufen

SEMITOOL WSST-806A ist eine Photoresist-Ausrüstung, die sowohl für Einzel- als auch für Multiwafer-Anwendungen zur Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Es verfügt über ein motorisiertes Eintauchfutter mit einem Temperaturregelbereich von -20 ° C bis + 75 ° C und einer einstellbaren Mittellinienhöhe. Das System ist mit einer hochauflösenden Bewegungseinheit sowie einem Schrittmotorregler ausgestattet, um eine genaue Positionierung des Wafers in der gewünschten Höhe und Winkel zu ermöglichen. Die Maschine verfügt außerdem über einen Hochgeschwindigkeitsspinmotor und Temperatursensor für eine präzise Zeit- und Temperaturregelung. Der Photoresist-Prozess verwendet ein Maskierungsmuster, um ein Gerät aus einem bestimmten Material durch chemische und Ätzprozesse zu erzeugen. Bei diesem Werkzeug wird der Photolack auf den Wafer aufgebracht. Der aufgebrachte Photolack kann ultravioletter Strahlung oder Laserlicht ausgesetzt sein, die in die belichteten Bereiche des Photolacks einätzt. Die belichteten Bereiche werden dann entfernt, so dass das definierte Muster zurückbleibt. Um zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse zu erzielen, müssen Zeit und Temperatur des Photolacks während des gesamten Prozesses genau kontrolliert werden. SEMITOOL WSST806A Asset wurde entwickelt, um eine präzise, konsistent wiederholbare Umgebung für die Photoresist-Verarbeitung bereitzustellen. Es hat eine Drehgeschwindigkeit von bis zu 2885 U/min, was eine optimierte Zeit und Temperatur der Photolackbelichtung ermöglicht. Das Modell verfügt zudem über ein hochauflösendes, motorisiertes Tauchfutter mit Temperaturregelung von -20 ° C bis + 75 ° C für wiederholbare Ergebnisse. Zusätzlich ist das Gerät mit Encoder-Schnittstellen ausgestattet, die eine präzise Steuerung der Mittellinienhöhe des Wafers ermöglichen. WSST-806A System ist ein effektives Werkzeug für Halbleiterhersteller, um anspruchsvolle Halbleiterbauelemente mit wiederholbaren Prozessen zu erstellen. Die motorisierten Eintauchfutter und automatisierten Aggregatparameter liefern genaue und konsistente Abbildungsergebnisse. Der Hochgeschwindigkeitsspinmotor und die Temperaturregelung sorgen für eine zuverlässige Photoresist-Belichtung und sorgen für eine zuverlässige und wiederholbare Verarbeitungsumgebung von einem oder mehreren Wafern.