Gebraucht SEMITOOL WST-305MP #9109522 zu verkaufen

SEMITOOL WST-305MP ist ein Werkzeug, das in der Photolithographie zur Entwicklung von Photoresist verwendet wird. Es ist eine fortschrittliche nasse Bank Ausrüstung entwickelt, um die neuesten, hochpräzise Photomasken und nasse Bank Komponenten zu verarbeiten. Das System verfügt über einen vollautomatischen Transportmechanismus, der eine präzise Platzierung und Orientierung der Proben ermöglicht. Darüber hinaus verfügt sie über eine hochpräzise Zwei-Bilderrahmen-Maskenstation, um einheitliche Verarbeitungsergebnisse zu gewährleisten. WST-305MP verfügt auch über eine fortschrittliche Steuereinheit, die eine verbesserte Genauigkeit und Wiederholbarkeit in Photolithographie-Anwendungen ermöglicht. Der primäre Einsatz der Maschine besteht in der Entwicklung von Photoresists für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und integrierten Schaltungen. SEMITOOL WST-305MP verwendet ein Hot-Process-Modul, um die Entwicklungszeit zu reduzieren, und die Maschine ist in der Lage, komplexe strukturierte Substratprozesse wie Dual-Level-Belichtung durchzuführen. Die dabei verwendete kontrollierte UV-Strahlung wird durch Mehrfeld-Festkörper-UV-Laser erzeugt. Das Tool ist mit einer Reihe von erweiterten Prozesssteuerungsoptionen ausgestattet, die dem Benutzer eine Echtzeit-Prozessüberwachung, Rückverfolgbarkeit und Feedback-Funktionen bieten. Dazu gehören Optionen für die Entwicklung von ein- und zweistufigen Resistschichten sowie Steuerungsmöglichkeiten für flüssige Photoresist-Abscheidung und Plasmaätzen. Die strenge Prozesskontrolle sorgt auch für Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit bei der Entwicklung von Photoresist. WST-305MP ist zudem mit einem ausgeklügelten Controller/Softwaremodell ausgestattet, das zur Ausführung einer Reihe von benutzerdefinierten Prozesseinstellungen programmiert werden kann. Es verfügt auch über eingebettete Diagnose- und Wartungswarnungen, die den Benutzer auf potenzielle Maschinen- und Komponentenrisiken aufmerksam machen. SEMITOOL WST-305MP ist eine leistungsstarke und vielseitige Photolithographie, die eine effiziente und zuverlässige Verarbeitung von Photomasken und Substraten ermöglicht. Es ist eine ideale Wahl für die Entwicklung fortschrittlicher Photolackschichten für Halbleiter- und IC-Bauelemente. Die intuitive Benutzeroberfläche des Systems und eine breite Palette von Prozesssteuerungsoptionen sorgen für eine verbesserte Produktivität und höhere Erträge.