Gebraucht SEMITOOL WST-306MG #9014933 zu verkaufen

SEMITOOL WST-306MG ist eine Photoresist-Ausrüstung für die Hochleistungs-Waferbearbeitung. Dieses System ist ideal für die Erstellung von nanoskaligen Strukturen für fortgeschrittene Geräteanwendungen. Es verfügt über eine automatisierte Ladeeinheit für bis zu 6 "Wafer sowie eine programmierbare Heiz-/Kühlmittelmaschine zur präzisen Temperaturregelung. Das Photoresist-Werkzeug enthält auch eine kontrollierte Atmosphäre, um Oxidation während der Verarbeitung zu verhindern. WST-306MG enthält mehrere erweiterte Funktionen für die genaue Verarbeitung von photoresistbeschichteten Wafern. Es verfügt über drei Ebenen der automatisierten Optik, um den genauen Fokus jedes Musters auf dem Wafer zu bestimmen. Ein Präzisionssubstrattisch erlaubt die Ausrichtung des photoresistbeschichteten Wafers vor der Verarbeitung. Diese Ausrichtung ist für großflächige Filme wichtig, um eine Verzerrung des Musters bei der Belichtung zu verhindern. Darüber hinaus können bei der Verarbeitung automatisierte Einstellungen der Fokus- und Bühnenposition vorgenommen werden. SEMITOOL WST-306MG verwendet einen Präzisionsschrittmotor, um den Wafer in vorbestimmten Schritten über den zu belichtenden Bereich zu bewegen. Darüber hinaus verfügt es über ein hohes Seitenverhältnis Beleuchtung Asset, um eine 3D-Strukturierung des Materials zu ermöglichen. Das Modell wurde für die Integration mit Standard-CAD-Systemen entwickelt, um eine einfache Musterübertragung zu ermöglichen. Die Photolackausrüstung wurde auf Zuverlässigkeit und gleichbleibende Leistung ausgelegt. Es verfügt über eine robuste vibrationsfreie Steifigkeit, um eine optimale Ausrichtung während des gesamten Prozesses zu gewährleisten. Die Subumgebung Trockenbearbeitung ermöglicht eine qualitativ hochwertige Anwendung von Fotolackfilmen. Darüber hinaus macht seine benutzerfreundliche Oberfläche die Bedienung einfach und effizient. WST-306MG ist letztendlich ideal für nanoskalige Forschungsanwendungen wie Photomaskenherstellung, Halbleitergeräteherstellung, Lithographiemaskenherstellung, Dünnschichtabscheidung und Herstellung von optischen Elementen unter anderem. Seine fortschrittliche Optik und seine kontrollierte Umgebung ermöglichen eine präzise und genaue Verarbeitung, um nanoskalige Strukturen zu schaffen. Diese Nanostrukturen können dann bei der Entwicklung fortschrittlicher Geräte und Produkte eingesetzt werden.