Gebraucht SEMITOOL WST-308 #9155122 zu verkaufen

SEMITOOL WST-308 ist eine hochpräzise Photoresist-Ausrüstung, die für die Herstellung von präzisen photolithographischen Masken verwendet werden kann, die in einer Vielzahl von industriellen und elektronischen Anwendungen verwendet werden. Das System verfügt über integrierte Präzision und Wiederholbarkeit für große und kleine Funktionen. SEMITOOL WST 308 verfügt über servogesteuerte Präzisions- x-, y- und z-Achsen für alle Betriebsprozesse. Das Gerät kann mit positiven oder negativen Photoresists arbeiten, sowie weicheren Resists, die für Mehrschichtformationen verwendet werden. Die Maschine hat die Fähigkeit, alle Arten von Substraten zu heben, zu drehen und zu platzieren, ohne sich auf Zentrifugalkraft zu verlassen. Zwei Spritzenpumpen sorgen für einen präzisen und kontrollierbaren Materialfluss zur Abgabe von flüssigen und güllebasierten Photoresists. Die Pumpen sind verstellbar, um unterschiedliche Viskositätsstufen aufzunehmen und eine einfache und sichere Bedienung zu ermöglichen. Das Werkzeug ist für Spinnspin-Anwendungen optimiert, um die Verteilung des Photolacks auf eine Vielzahl von Substratgrößen zu maximieren. Es gibt viele verschiedene Belichtungsprofile in der Software des Vermögenswertes, von Lichtdurchsatz und Intensität bis zu aberrationsfreien Bildern. WST-308 verfügt auch über weitere Merkmale wie eine optionale Kühlplatte für die temperaturgeregelte Verarbeitung und ein automatisiertes Rahmenausrichtungsmodell, das kleine Positionsverschiebungen erkennen und korrigieren kann. Dadurch wird sichergestellt, dass das gleiche Belichtungsprofil über unterschiedliche Materialstärken konstant erreicht wird. Insgesamt ist WST 308 eine zuverlässige Photolackausrüstung, die konsistente und wiederholbare Ergebnisse für verschiedene Anwendungen liefert. Es verfügt über die höchste Präzision, Wiederholbarkeit und Kontrolle jedes Systems in seiner Klasse. Das Gerät hat die Fähigkeit, photolithographische Masken mit sehr kleinen Funktionsgrößen zu produzieren und kann für eine Vielzahl von Aufgaben verwendet werden, von der Bildgebung über die Wafer- und Maskenentwicklung.