Gebraucht SEMITOOL WST-406MG #35587 zu verkaufen

SEMITOOL WST-406MG ist eine hochmoderne Fotoresistausrüstung für die Nassverarbeitung, wie Reinigung, Ätzen und Beschichtung von Wafern in einer Reinraumumumgebung. Das System steuert die Temperatur, Konzentration und Dauer der nassen Prozesse mit einer automatisierten Rückkopplungsschleife, so dass Benutzer wiederholbare, qualitativ hochwertige Ergebnisse erzielen können. WST-406MG ist eine modulare Einheit, die einfach konfiguriert werden kann, um den Anforderungen einer Vielzahl von Prozessen gerecht zu werden. Es verfügt über eine Temperaturregelung durch eine fortschrittliche digitale Heiz- und Kühlmaschine mit einem präzisen und konsistenten Temperaturbereich zwischen 20 ° C und 80 ° C. Das Werkzeug ist auch in der Lage, die Konzentration der Photolacklösung mit einem pH-Meter und Titrationsreglern genau zu steuern. SEMITOOL WST-406MG verfügt zudem über eine breite Palette automatisierter Prozesssteuerungen, mit denen Anwender zeitgenaue Prozesse programmieren können, die leicht einstellbar sind. Diese Flexibilität ermöglicht es Anwendern, das Asset einfach an ihre spezifischen Anforderungen anzupassen. Das Modell verfügt auch über integrierte Sicherheitsfunktionen wie automatische Absperr- und Flüssigkeitsleckerkennung, um Unfälle zu vermeiden und die Reinraumumumgebung für einen sicheren Betrieb zu sorgen. WST-406MG verfügt über eine hochleistungsfähige, präzise automatisierte Wafer-Handhabungseinrichtung, die bis zu 16 Wafer in einem einzigen Bearbeitungszyklus mit einem maximalen Waferdurchmesser von 200mm ausführen kann. Das automatisierte Handling-System sorgt für wiederholbare Ergebnisse und minimale Ausfallzeiten. SEMITOOL WST-406MG bietet außerdem eine Prozessüberwachung mit einer Datenerfassungsfunktion, mit der Benutzer die Leistung ihrer Prozesse in Echtzeit aufzeichnen und analysieren können. Diese Fähigkeit ist wesentlich für die Fehlerbehebung und Verbesserung der Qualität der Endergebnisse. Insgesamt ist WST-406MG eine fortschrittliche, flexible Nassverarbeitungseinheit, die außergewöhnlich hochwertige Photoresist-Wafer herstellen kann. Der automatisierte Betrieb und die integrierten Sicherheitsmerkmale garantieren konsistente Ergebnisse bei minimalem Eingriff des Bedieners und sind somit eine ideale Wahl für den Einsatz in anspruchsvollen Reinraumumgebungen.