Gebraucht SEMIX Opus 2/3 #293650490 zu verkaufen

SEMIX Opus 2/3 ist eine Fotoresistausrüstung, die entwickelt wurde, um glatte, hochauflösende Geräte mit minimalen Defekten zu produzieren. Es wird vom globalen Unternehmen SEMIX, einem führenden Anbieter fortschrittlicher Photolithographie-Technologien, hergestellt. Das System bietet High-End-Lithographie-Leistung und Funktionsgrößen von 20 nm und höher. Es besteht aus zwei Hauptkomponenten: dem Optic Pro Tool und der Wafer Management Unit (WMS). Die Optic Pro ist die primäre Komponente der SEMIX Opus 2/3 Maschine, die dafür verantwortlich ist, hochauflösende Bilder auf den Wafer zu bringen. Es verfügt über eine einzigartige Anordnung von optischen Komponenten, die zusammenarbeiten, um ein kontrastreiches und dann rahmengeschobenes Bild des gewünschten Musters auf dem Wafer zu erzeugen. Das WMS hingegen ist die Auswucht- und Steuerungskomponente des Werkzeugs. Es stellt eine physikalische Schnittstelle zwischen dem optischen Pro und dem Wafer zur Verfügung, die den Fluss von Chemikalien, mechanische Bewegungen und andere Umweltbedingungen für den Lithographieprozess benötigt. Es verwendet fortschrittliche Steuerungssysteme, um verschiedene Parameter wie Temperatur, Druck und Lichtexposition zu überwachen und anzupassen, um Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. SEMIX Opus 2/3 Asset-Prozess beginnt mit dem Aufbringen einer lichtempfindlichen Photopolymerschicht, die als Photoresist bekannt ist, auf einen Siliziumwafer. Sobald diese Schicht aufgebracht ist, projiziert das Optic Pro-Tool über eine mehrstufige Beugungsoptik eine Maske des gewünschten Musters auf den Wafer. Wenn das Licht dieses Muster durchläuft, wird es je nach Konstruktionsanforderungen blockiert oder übertragen. Alle Bereiche, in denen Licht blockiert ist, werden vor der Entwicklerlösung geschützt und bleiben ungeätzt. Der Rest des Wafers wird weggespült, wobei nur das gewünschte Muster zurückbleibt. Der nächste Schritt ist der Abspülvorgang. Dabei wird die unerwünschte Resistschicht vom Wafer weggespült und hinterlässt ein knackiges, sauberes Muster. Anschließend wird der Resist mit einem spezialisierten Trocken-/Nassstreifenwerkzeug vom Photolack entfernt. Schließlich wird der präparierte Wafer in die erforderlichen Gerätestrukturen eingewürfelt und auf etwaige Unvollkommenheiten überprüft. SEMIX Opus 2/3 ist ein effizientes und präzises Photolackmodell, das die Herstellung hochwertiger Mikrodefizite mit minimalen Defekten ermöglicht. Es ist ideal für die Herstellung feinster Designs mit den innovativsten Materialien auf dem Markt.