Gebraucht SEMIX / TAZMO TR 6133UD #293598589 zu verkaufen

SEMIX/TAZMO TR 6133UD ist eine vollautomatische und vielseitige Photoresist-Anlage, die für eine breite Palette von industriellen Anwendungen eingesetzt werden kann. Es ist mit photolithographischen Techniken im Auge entworfen und ist in der Lage, tiefe Ätzungen, Planarisierung und hochauflösende Musterung bis zu Auflösungen von 0,5 Mikrometern zu produzieren. Die Haupteinheit besteht aus einem digitalen Bedienpult und einem Vakuumtisch. Die Steuerkonsole bedient die Mikrometerskala X, Y und Z der Vakuumtabelle zur genauen Ausrichtung und Positionierung von Photolackmustern. Der Vakuumtisch enthält ferner eine programmierbare Belichtungskammer und ein Abgabesystem zum automatisierten Be- und Entladen des Fotolacks. SEMIX TR 6133UD bietet eine Reihe von Funktionen, darunter einen digitalen Bildaufnehmer, eine Ausgabe- und Antriebssteuerung, eine Wafer-Übergabeeinheit und eine Vakuummaschine. Der Bildaufnehmer zeichnet das gewünschte Grünlichtbelichtungsmuster auf, das dann zur Ansteuerung der Bewegungssteuerung der X-, Y- und Z-Achse dient. Die Ausgabe- und Antriebssteuerung dient zur präzisen Steuerung des Photolackflusses und des Betriebs der Mikrometer-Skalenstufen während der Strukturierung. Das Waferabgabewerkzeug hilft bei der Übertragung von photoresistbeschichteten Wafern zwischen der Einheit und der Bearbeitungskammer. Die Vakuumanlage trägt dazu bei, eine gleichmäßige und saubere Oberfläche für eine hochauflösende Strukturierung zu gewährleisten. TAZMO TR 6133UD bietet eine hervorragende Leistung mit einer Wiederholbarkeit von 10 Mikrometern und einer hohen Auflösung von 0,5 Mikrometern. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine breite Palette von Unterstützungsgeräten, die die Entwicklung von photoresistbasierten Geräten und Produkten unterstützen. Dazu gehören automatisierte Ausgabewerkzeuge, Hochgeschwindigkeits-Scanwerkzeuge, Photoresist-Sputtersysteme und eine Reihe von Photoresist-basierten Ablagerungssystemen. TR 6133UD ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die hochauflösende Musterfunktionen, hervorragende Wiederholbarkeit und eine breite Palette von Support-Tools bietet. Es wurde entwickelt, um den Anforderungen der industriellen Anwendungen gerecht zu werden, die photolithographische Verfahren erfordern, und kann hochpräzise Ergebnisse in einem Bruchteil der Zeit liefern.