Gebraucht SEMIX / TOK / TAZMO SOG #9097200 zu verkaufen

SEMIX/TOK/TAZMO SOG ist ein spezialisiertes Photolacksystem von Asahi Glass Co. Ltd. Es wird verwendet, um ultrafeine Linienmuster im Herstellungsprozess einer Vielzahl von elektronischen und Halbleiterbauelementen zu erzeugen. Das System besteht aus drei Kernkomponenten: einer 4-Positionsbelichtungseinheit, einem Solver zur Feinbelichtungssteuerung und einem Nachbearbeitungswerkzeug. Die 4-Positionen-Belichtungseinheit wurde entwickelt, um Belichtungszeit, Fokus und Intensität für jeden belichteten Bereich zu optimieren. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Resistmaterialien bis zu einer feinen Linienmusterbreite von 0,75 μ m zu belichten. Der Solver verwendet ein optimiertes optisches Modell für maximale Belichtungssteuerungsgenauigkeit und Wiederholbarkeit. Dies ermöglicht eine verbesserte Auflösung und reproduzierbare Musterparameter. Das Nachbearbeitungswerkzeug wird verwendet, um Linienmusterparameter festzulegen und die Belichtungszeit anzupassen, um das Linienmuster und die Auflösung zu verfeinern. Das TOK SOG-System unterscheidet sich von herkömmlichen Photolithographiesystemen dadurch, dass es eine kürzere Bearbeitungszeit hat, um eine feine Linienmusterung und eine höhere Auflösung zu erreichen. Die dünneren Widerstände und ultrafeine Linienmusterauflösung ermöglichen eine erhöhte Musterdichte und Designflexibilität. Die verbesserte Auflösung und Wiederholbarkeit ermöglichen auch eine bessere Mustergenauigkeit und verbesserte Ausbeute. SEMIX SOG ist ideal für Anwendungen wie Leiterplatten, Halbleiterproduktion, medizinische Geräteherstellung und andere ultrafeine Linienmusteranwendungen. Seine verbesserte Auflösung und Effizienz machen es zu einer attraktiven Wahl für diejenigen, die die Verarbeitungszeit reduzieren und den Ertrag in ihren Produktionsprozessen erhöhen möchten.