Gebraucht SEMIX TR 6132U #9284321 zu verkaufen

SEMIX TR 6132U ist eine Photoresist-Ausrüstung für optische Lithographieverfahren. Dieses System liefert präzise lithographische Lösungen für die Herstellung hochgenauer elektronischer Komponenten und Produkte. Die Einheit dient in erster Linie zur Abbildung und zum Drucken der feinen Merkmale eines Schaltungsmusters oder anderer Merkmale auf ein Substrat. TR 6132U besteht aus einer Vakuumkammer, einer Excimer-Laserlichtquelle, einer strahlformenden optischen Maschine und einer Beleuchtungslinse. Mit einem Excimerlaser wird eine Lichtquelle hoher Intensität zur Strahlung hochauflösender Muster auf ein Substrat bereitgestellt. Das strahlformende optische Werkzeug ist für die Bildung der gewünschten Musterform und Größe im Laserstrahl verantwortlich. Die Beleuchtungslinse fokussiert dann die Musterform und Größe des Strahls auf das Substrat. Die Vakuumkammer dient zur Bereitstellung einer Umgebung, die Störungen durch Umgebungsbeleuchtung, Luftbewegung und Vibrationen minimiert. Die gesamte Anlage arbeitet unter einem Vakuum mit druckgeregeltem Druck, um mögliche Lichtquellenverschmutzungen zu minimieren. SEMIX TR 6132U verfügt über eine hohe Bewegungsauflösung zur genauen Ausrichtung von Schaltungen. Das Modell ist mit einem automatischen Ausrichtmechanismus gekoppelt, der sicherstellt, dass der Laserstrahl zentriert ist und sich genau auf das Ziel fokussiert. Mit wenigen kleineren Anpassungen kann das Gerät schnell kalibriert werden, um die Muster auf dem Substrat genau wiederzugeben. Darüber hinaus bietet TR 6132U eine breite Palette an erweiterten Funktionen, um die Qualität des Drucks zu erhöhen. Diese Eigenschaften schließen einen zweidimensionalen Steuerknüppel ein, der genaue Anpassung des optischen Kopfs des Systems, einer Hochleistungsbewegungssteuereinheit für die schnellere Antwort und glattere Operation und verschiedenen Pulsraten der Aussetzungskontrolle berücksichtigt, um den Musterbeschlussanforderungen zu entsprechen. SEMIX TR 6132U ist eine zuverlässige und leistungsstarke Photolackeinheit, die eine optimale Leistung für Lithographieprozesse bietet. Es ist in der Lage, fein abgestimmte Muster und Präzision zu geben, um hohe Qualität, genaue und wiederholbare gedruckte Ergebnisse zu erzielen. Die Maschine ist für eine breite Palette von industriellen Anwendungen geeignet, einschließlich Halbleiterverarbeitung, Geräteherstellung und Leiterplattenherstellung.