Gebraucht SEMIX TR 6133UD #9250101 zu verkaufen

SEMIX TR 6133UD ist eine hochmoderne Photolackausrüstung für die Mikroelektronikindustrie. Dieses System wurde entwickelt, um den wachsenden Anforderungen an ultrafeine Linienbreiten gerecht zu werden, mit der Fähigkeit, Funktionslinien bis zu 0,3 Mikrometer zu verarbeiten. Die Hauptverarbeitungsmodule sind die Sprüheinheit, der PAD-Prozessor und das E-Beam (e-beam) -Modul. Die Sprüheinheit ist darauf ausgelegt, Photolack schnell und präzise auf ein Substrat aufzubringen. Dabei wird ein paralleler Strahl verwendet, der durch einen 6-Achsen-Roboterarm erzeugt wird. Die Drehstufe dient dazu, ein Substrat genau auf dem Sprühgerät zu positionieren, während eine beheizte Düse eine gleichmäßige, gleichmäßige Schicht des Photolacks auf das Substrat aufbringt. Diese Einheit ermöglicht es Benutzern, eine hohe Auflösung bei der Verarbeitung eines Substrats zu erreichen. Für die Steuerung der Prozessparameter ist der PAD-Prozessor zuständig. Es ermöglicht Anwendern, die Photolackzusammensetzung und präzise Belichtungsparameter einzustellen, um das Substrat genau zu verarbeiten. Einer der Vorteile des PAD-Prozessors ist, dass er mit einer breiten Palette von Photoresists verwendet werden kann. Darüber hinaus ermöglicht der PAD-Prozessor auch, die Parameter für verschiedene Substrate schnell anzupassen. Das E-Beam-Modul ist so konzipiert, dass es in Verbindung mit dem PAD-Prozessor zur genauen Belichtung des Fotolacks verwendet wird. Es verwendet einen leistungsstarken Elektronenstrahl, um einheitliche Merkmalslinien zu erreichen und eine hohe Auflösung bei der Verarbeitung des Substrats zu erzielen. Das E-Beam-Modul hat auch die Möglichkeit, beim Mustern eines Substrats automatisch kleine KEs zu vergrößern. Insgesamt ist TR 6133UD eine leistungsstarke Photolackeinheit für die Mikroelektronikindustrie. Es verwendet eine Kombination aus Sprühgerät, PAD-Prozessor und E-Beam-Module, um Substrate effektiv zu verarbeiten. Die Maschine bietet eine hohe Auflösung und Genauigkeit und ist für die Verarbeitung von Leistungslinien bis zu 0,3 Mikrometer ausgelegt. Es ist eine ausgezeichnete Wahl für diejenigen, die auf der Suche nach Top-of-the-Line-Fotoresist-Fähigkeit.