Gebraucht SEMIX TR 6133UD #9284320 zu verkaufen

SEMIX TR 6133UD ist eine Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung mit außergewöhnlicher Auflösung, geringer Verzerrung, hoher Prozessstabilität und geringem chemischen Abfall. Es ist ein vollautomatisches und programmierbares System, das bei der Ausführung fortschrittlicher Photolithographie-Prozesse Zeit- und Arbeitskosten minimiert. Die Photolackeinheit verwendet eine fortschrittliche Vakuumbelichtungsmaschine, die die Lichtbelichtungsmodulation als primäre Werkzeugtechnologie verwendet. Das Asset ist in der Lage, fortschrittliche Funktionen mit hoher Präzision, hoher Wiederholbarkeit und geringer thermischer Verzerrung zu exponieren. Die verbesserte Auflösung und hohe Prozessstabilität macht TR 6133UD ideal für extrem kleine und präzise Funktionsgrößen. Das bemerkenswerteste Merkmal von SEMIX TR 6133UD ist seine Fähigkeit, im Gegensatz zu herkömmlichen optischen Systemen eine fortschrittliche und präzise Funktionsgrößensteuerung zu liefern. Das Modell verwendet speziell entwickelte optische Masken mit mehrschichtiger dielektrischer Abscheidung, die es ermöglicht, den Fotolack einer höheren Belichtungsfrequenz auszusetzen, um feinere Eigenschaften bis zu nm Größen zu erreichen. TR 6133UD ist außerdem darauf ausgelegt, chemische Abfälle während der Lithographie zu minimieren. Dies wird erreicht, indem eine Kombination aus Wasser und Tensid verwendet wird, um chemische Abfälle zu reduzieren. Zusätzlich nutzt die Anlage einen Regenerationszyklus mit geschlossenem Kreislauf, der das Risiko einer Kreuzkontamination während des Regenprozesses minimiert und die Prozessausbeuten verbessert. Das SIMIX SEMIX TR 6133UD wurde entwickelt, um die fortschrittlichsten Lithographieverfahren, einschließlich DWELL (Direct Write Electronic Lithography), zu erleichtern. Das System ist mit Mehrfachbeschichtungs- und Spin-Coating-Lösungen kompatibel und ermöglicht den Einsatz spezieller Dünnschichtbeschichtungen für dünne und dicke Substrate. Das Gerät verfügt auch über eine erweiterte Funktion der Temperatur- und Feuchtigkeitsüberwachung integriert, so dass Benutzer zu gewährleisten, dass ihre Prozesse unter exakten Bedingungen jedes Mal ausgeführt werden. Die leistungsstarke und automatisierte Programmiermaschine ermöglicht es dem Anwender, Parameter wie Temperatur, Belichtungszeit und Feuchtigkeit einfach zu steuern, um überlegene Ergebnisse zu erzielen. TR 6133UD Photoresist-Tool ist ein fortschrittliches, hochpräzises und programmierbares Werkzeug, das die anspruchsvollsten Anforderungen des fortschrittlichen Photolithographie-Prozesses erfüllt. Die Anlage bietet eine erhöhte Prozessstabilität und Reduktion chemischer Abfälle und gewährleistet eine überlegene Auflösung und Genauigkeit der Funktionen.