Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293587004 zu verkaufen

SEZ/LAM RESEARCH 4300 Photoresist Equipment ist ein revolutionäres Werkzeug, das für Anwendungen wie Halbleiterwaferbearbeitung, Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und andere Präzisionsoperationen entwickelt wurde. Dieses System ist mit einem 200 mm Lithographiewerkzeug der Klasse 1 ausgestattet. Es ermöglicht einen schnellen Betrieb der Einheit, eine genaue Beständigkeit gegen Belichtung und eine hervorragende Auflösung sowie Flexibilität und Skalierbarkeit. SEZ/LAM4300 verfügt über eine Wafer-Handhabungsmaschine, die aus einem Ionenimplantierer und einem Elektronenstrahlverdampfer besteht. Dies ermöglicht präzise Resistanwendung und Profilmodifikationen, die beide erfolgreich auf Substraten unterschiedlicher Größe durchgeführt werden können. Das Tool ermöglicht mehrere Belichtungseinstellungen, die für die genauen Anforderungen eines Projekts angepasst werden können. Die MaximusTM Software-Suite kann auch zur Überwachung und Steuerung des Assets verwendet werden, was eine konsistente Resist-Performance für wiederholbare Prozesse gewährleistet. Das Modell nutzt eine leistungsstarke Optikausrüstung bestehend aus FOUP (Front-Opening Unified Pod) -Technologie und ist für den Hochdurchsatzbetrieb ausgelegt. Der FOUP ermöglicht einen schnellen Wafertransfer zwischen seinen internen Trägern und dem DPS (Direct Plasma Sprayer). Das DPS ist ein 300mm-konformes Lithographiewerkzeug, das den Ionenstrahl fokussiert, um den Resist genau zu ätzen. Die MaxEtch Tool Suite ist in das DPS integriert, wodurch Belichtungsparameter schnell und einfach eingestellt werden können. LAM RESEARCH/LAM SEZ 4300 verfügt auch über eine Reihe von erweiterten Funktionen wie eine detaillierte Bibliothek von Belichtungsrezepten und voreingestellten Resist-Profilen. Es ermöglicht die vollständige Anpassung von Ätzprozessen einschließlich Patterend und einheitlichen Radierungen. Das System verfügt außerdem über eine Endura-Schnittstelle, die den Zugriff auf Multicloud-Funktionen ermöglicht und die Massenproduktion unterstützt. Schließlich ist SEZ/LAM RESEARCH/LAM LAM RESEARCH 4300 Photoresist Unit mit globalem Service und Support gekoppelt und erfüllt Compliance-Standards wie SEMI S2, J-STD-001 und IEC60881.