Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293598011 zu verkaufen

ID: 293598011
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Spin etcher, 12" Dual arm robot (4) Multi level process chambers Chemical cabinet Load port FFU and exhaust Chemical dispense system Operating system: Windows NT PC Power supply: 400 V, 75 A, 50/60 Hz 2005 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH 4300 ist eine Photoresist-Inhibitor-Ausrüstung, die Halbleiterhersteller bei der Lithographie unterstützt. Es handelt sich um eine hochpräzise Ausrüstung zur Identifizierung und genauen Dosierung des in Lithographieverfahren verwendeten Photolacks. SEZ 4300 verwendet patentierte algorithmenbasierte Prozesssteuerung, um Photoresists in einer integrierten Einheit zu scannen, zu identifizieren und genau zu dosieren. Es kann einfach in bestehenden Lithographiesystem-Workflow integriert werden. LAM RESEARCH 4300 Einheit ermöglicht eine Vielzahl von Photolackanwendungen, von tiefem Ultraviolett (DUV) bis Elektronenstrahl (EB). Sie besteht aus mehreren Komponenten, darunter einer Lichtquelle, einem Photolackapplikator, einem Substrattisch und einem Reglermodul. Die Lichtquelle liefert ein gleichmäßiges und gleichmäßiges Lichtbild über das gesamte Substrat für eine gleichmäßige Photolackverteilung. Der Photoresist-Applikator besteht aus Abgabeventilen, einer Abgabedüse und einem Abgabekopf, der eine präzise Steuerung des Photoresist-Dispense-Prozesses ermöglicht. Der Substrattisch trägt das Substrat, bevor es der Lichtquelle ausgesetzt wird. Neben der genauen und zuverlässigen Photolackanwendung verfügt die Maschine auch über weitere vorteilhafte Merkmale. Es verfügt über ein Onboard-Vision-Tool, das Unregelmäßigkeiten auf der Substratoberfläche erkennen kann und somit hohe Qualitätsergebnisse gewährleistet. Die automatische Substraterkennung kann die Substratabmessung und das Muster vor der Exposition schnell identifizieren. Das integrierte Datenerfassungsmodell bietet umfangreiche Daten und statistische Auswertungen des Prozesses. 4300 ist eine hochmoderne Photoresist-Inhibitorausrüstung, die Herstellern mehr Kontrolle und Flexibilität in ihrem Lithographieprozess bietet. Es kann den Photolackverbrauch drastisch reduzieren und die Ertragsraten verbessern, was zu einer erhöhten Effizienz und Kosteneinsparung für Halbleiterhersteller führt.
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