Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293662192 zu verkaufen

SEZ/LAM RESEARCH 4300 Photoresist Equipment ist ein hochmodernes Photolithographiesystem für die Entwicklung von High-End-Halbleiterbauelementen. Das Gerät verfügt über einen großen, hochauflösenden digitalen Maskenausrichter mit einer numerischen Apertur von 0,5 und einer 12,7-Mikron-Feldgröße, wodurch es ideal für die Geräteherstellung ist. Die Maschine umfasst auch eine hochpräzise, selbstreinigende Ausgabeeinheit für die Abscheidung von Photolackmaterial und eine benutzerfreundliche Software-Suite zur Steuerung des gesamten Prozesses. Das Werkzeug verwendet einen mehrstufigen Prozess, um das Photolackmaterial abzuscheiden und zu strukturieren. Zunächst wird eine Schicht aus Photolack über das Substrat ausgegeben und anschließend mit einem rechnergeführten Laser das Photolackmaterial dem gewünschten Muster ausgesetzt. Anschließend wird das Substrat einem intensiven ultravioletten Licht ausgesetzt, um das belichtete Photolackmaterial auszuhärten. Schließlich wird das Substrat einer Reihe chemischer Prozesse unterzogen, um die Auflösung des Endmusters zu verbessern. SEZ 4300 wurde entwickelt, um eine überlegene Auflösung und Genauigkeit für die Geräteherstellung zu bieten. Das Asset entspricht dem Fotolackprotokoll nach Industriestandard und kann sowohl negative als auch positive Anforderungen an das Photolackprofil unterstützen. Das Modell bietet auch die Möglichkeit, sowohl Wafer-Level und Chip-Level-Lithographie, sowie mehrere Läufe des gleichen Musters durchführen. LAM RESEARCH 4300 sorgt für eine konsistente und wiederholbare Verarbeitung. Das System verfügt über integrierte Datenprotokollierungsfunktionen, die zur Überwachung von Prozessparametern und zur Gewährleistung der Einheitlichkeit sowie zur Erkennung etwaiger Außertoleranzbedingungen verwendet werden können. Darüber hinaus ist das Gerät mit anspruchsvollen, aber einfach zu bedienenden Funktionen ausgestattet, die die Ätz-, Lithographie- und Abscheidungsprozesse optimieren. Insgesamt ist 4300 eine ideale Wahl für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Mit seinen hochauflösenden Bildverarbeitungsfunktionen, der robusten Ausgabeeinheit und der fortschrittlichen Software-Suite kann die Maschine kostengünstige Lösungen für die anspruchsvollsten Photolithographieanwendungen bereitstellen.