Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH 4300 #9211221 zu verkaufen

SEZ/LAM RESEARCH 4300 Photoresist Equipment ist ein Hochleistungs-Photoresist-System mit großer Kapazität, das für die Abscheidung von Photoresist und Photomasken ausgelegt ist. Es ist mit fortschrittlichen Funktionen ausgestattet, die eine präzise Steuerung des Photolackprozesses während der Abscheidung ermöglichen. Das Gerät enthält zwei unabhängige Verarbeitungskammern und bietet fortschrittliche Vorbehandlungs-, Back- und Nachbehandlungsmöglichkeiten für eine Vielzahl von Photoresist- und Photomaskenmaterialien. SEZ 4300 Photoresist Machine verfügt über eine 8 „x 8“ große Abscheidekammer mit einer beweglichen Bühne, die eine genaue und wiederholbare Schichtdicke der Photoresist-Schicht ermöglicht. Diese Stufe kann manuell oder automatisch über ein Computersteuerungs-Softwarepaket bedient werden. Zum Werkzeug gehört auch eine Linkam-Heiz-/Kühlstufe (LHS), die eine gleichmäßige Heizumgebung für eine optimale Photoresist-Prozesssteuerung schafft. LAM RESEARCH 4300 verfügt über einen vollautomatischen Roboterarm zur präzisen Substrathandhabung und ein Feedback-Asset zur Überwachung und Steuerung der Schichtdicke des Photolacks. Es beinhaltet auch ein standardisiertes Kalibriermodell zur präzisen Kalibrierung und präzisen Steuerung der Photolackschichtdicke. 4300 ist auch mit fortschrittlichen Prozesskontrollinstrumenten wie einem Laserstrahl-Profilometer für Substratebenheits- und Oberflächenrauhigkeitsmessungen und einem Massenspektrometer zur Online-Überwachung der Photoresistzusammensetzung ausgestattet. SEZ/LAM RESEARCH 4300 Geräte bieten hohe Durchsatzraten und ertragreiche Photolackschichten für eine Vielzahl von Substraten und Substratgrößen. Es ist auch mit einer Vielzahl von Fotomasken-Materialien kompatibel und kann verwendet werden, um die Maske auf die Substratregistriergenauigkeit zu steuern und anzupassen. Das System verfügt über eine hochgradig konfigurierbare Benutzeroberfläche für eine einfache Integration in bestehende Produktionsumgebungen. SEZ 4300 Photoresist Unit ist eine fortschrittliche, hochleistungsfähige Photoresist-Abscheidungsmaschine, die sich ideal für Prozessentwicklungs-, Produktions- und Forschungsanwendungen eignet. Das Werkzeug bietet eine präzise Steuerung des Photolackprozesses während der Abscheidung und liefert gleichmäßige Abscheidungsschichten für Photolack- und Photomaskenmaterialien. Mit seiner fortschrittlichen Automatisierung, dem Feedback im geschlossenen Kreislauf, der Standardkalibrierung und den integrierten Sicherheitsfunktionen bietet das Modell eine präzise und zuverlässige Fotoresist-Abscheidung mit hohem Durchsatz und Ertragsraten.