Gebraucht SEZ / LAM RESEARCH Gamma GXT #9226988 zu verkaufen

SEZ/LAM RESEARCH Gamma GXT ist eine Photoresist-Ausrüstung, die zum Vervollständigen von Anwendungen wie Maskenherstellung, Mustertransfer und anderen empfindlichen Prozessen verwendet wird, die eine präzise Kontrolle der Belichtung von dünnen Schichten aus photoverarbeitbarem Material mit Lichtquellen erfordern. Es wurde speziell entwickelt, um zuverlässige Verarbeitung zu produzieren und den Ertrag zu optimieren, sowohl in der Produktion als auch in der F & E-Modulkonfiguration. Dieses System verfügt über proprietäre Software, Steuerelemente und Hardware, die SEZ speziell auf seine beabsichtigten Anwendungen zugeschnitten hat. Im Kern funktioniert eine Photoresist-Einheit vom Typ SEZ Gamma GXT, indem dünne Schichten aus photoprocessable Material effektiv einfallendem ultraviolettem (UV) Licht oder Elektronenstrahlen ausgesetzt werden, um seine chemische Struktur oder Eigenschaften zu modifizieren. Sie besteht typischerweise aus einem Resist Coater, einem Photolackentwickler, einer Lichtquelle, einer Linsenmaschine und einer Waferstufe. LAM RESEARCH Der Resist Coater von Gamma GXT ist dafür verantwortlich, vor der Strukturierung eine gleichmäßige und genaue Schicht von Photolayern auf das Substrat aufzubringen. Dies geschieht durch die Verwendung spezieller Beschichtungsköpfe, die eine feste Folie erzeugen, die durch eine Kombination von manuellen und anwendereinstellbaren Parametern präzise gesteuert werden kann. Anschließend werden die Wafer auf eine motorisierte Bühne gestellt und zum Photolackentwickler bewegt. Dabei lösen Misch- und chemische Lösungen die belichteten Teile des Photolacks auf und bilden so die gewünschten Muster. Der Entwickler verlangt vom Anwender, die Prozessparameter wie Zykluszeiten und Temperatur mit großer Präzision zu verwalten, um genaue Muster mit engen Toleranzen zu erzeugen. Die Lichtquelle ist ein wesentlicher Bestandteil eines Gamma GXT-Werkzeugs und für die Belichtung der Wafer mit UV-Licht verantwortlich. Es kann konfiguriert werden, um gewünschte Zielwellenlängen, Pulslängen und Energiepegeleinstellungen anzupassen. Eine fortgeschrittene optische Baugruppe, bestehend aus Fokussierelementen, Linsen und Spiegeln sowie einem Verschlusselement, ist dafür verantwortlich, Licht auf die Waferbühne zu lenken. Dadurch wird sichergestellt, daß nur der ausgewählte Bereich des lichtdurchlässigen Materials dem Licht ausgesetzt wird und die anderen Bereiche unbeeinflußt bleiben. Schließlich hält die Waferstufe das Substrat während des Belichtungsprozesses sicher in Position und muss mit der Bewegung aller anderen Komponenten im Modell synchronisiert werden. SEZ/LAM RESEARCH Die Gamma GXT-Serie bietet eine flexible und einstellbare Bühne mit einer breiten Palette von Bewegungsfunktionen, um unterschiedliche Verarbeitungsanforderungen zu erfüllen. Insgesamt wurde SEZ Gamma GXT entwickelt, um Präzision, Genauigkeit und Zuverlässigkeit bei hochvolumigen Photoresist-Anwendungsprozessen zu bieten. Es verfügt über erweiterte Automatisierungsfunktionen, optimierte Verarbeitungsqualität und überlegenes Umweltmanagement und ist damit eine zuverlässige Lösung für die meisten Anforderungen an die Produktion und Entwicklung von Photomasken.