Gebraucht SHANGHAI CENTURY SC2645 #9269006 zu verkaufen

SHANGHAI CENTURY SC2645 ist eine hochmoderne Photolackbeschichtungs- und Belichtungsanlage, die für fortschrittliche photolithographiebasierte Prozesse in der Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es eignet sich sowohl für Nassätz- als auch für Trockenätzverfahren und kann Wafer bis 8 Zoll Durchmesser handhaben. SC2645 Photolacksystem besteht aus mehreren verschiedenen Komponenten. Der Kern der Einheit besteht aus einem Nassspritzlack und einer Kapillare. Der Coater besteht aus einem Edelstahlgehäuse, einer Spritzpistole und einem Wafer-Stufenkippmechanismus. Die Sprühpistole weist eine verstellbare Düse auf, die zur abgewinkelten und gezielten Sprühpartikelabscheidung einstellbar ist. Die Kapillare sorgt für einen konsistenten, kontrollierten Fluss von Photolackmaterial zur Spritzpistole. Die Maschine umfasst auch zwei Lithographie-Belichtungseinheiten, die sowohl Kontakt- als auch Näherungsbelichtung handhaben können. Diese Belichtungseinheiten sind mit Laserstrahl-Scannern ausgestattet, die Muster mit ausgezeichneter Präzision und Genauigkeit erzeugen können. Die Scanner können Lichtintensität, Fokus, Ausrichtwinkel, Belichtungszeit und Strahllänge anpassen, um eine optimierte Belichtung zu erzeugen. Die Trocknungsstation von SHANGHAI CENTURY SC2645 ist ein Hochgeschwindigkeits-Kochplattenofen mit Infrarot-Thermometern und einem Hochleistungsventilator. Der Ofen kann auf Temperaturbereiche von 90 bis 330 Grad Celsius eingestellt werden, wobei die Dauer der Trocknung durch einen einstellbaren Timer gesteuert wird. Dadurch wird sichergestellt, dass Wafer gleichmäßig belichtet und getrocknet werden und konsistente Ergebnisse liefern. Um den Photoresist-Beschichtungsprozess abzuschließen, verfügt SC2645 Anlage über eine chemische Entwicklungskammer, die mit einem angeschlossenen Filterpumpenmodell ausgestattet ist. Die Kammer wird unter Druck gesetzt und kann bis zu 200 Grad Celsius erwärmt werden, um die Entwicklung zu beschleunigen. Die Filterpumpe trägt dazu bei, dass minderwertige Arbeiten nicht in den Prozess eintreten und damit die Qualitätskontrolle verbessert wird. Die Gesamtausstattung umfasst außerdem eine Filtereinheit, eine Vakuumpumpe und ein Kühlsystem. Alle diese Komponenten sind so konzipiert, dass sie einen konsistenten und kostengünstigen Photolithographie-Prozess bieten, der konstant hochwertige Ergebnisse für die fortschrittliche Halbleiterherstellung liefern kann.