Gebraucht SHANGHAI SSB300/30P #9375087 zu verkaufen

SHANGHAI SSB300/30P ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine zuverlässige Herstellung von mikroelektronischen Geräten mit präzisen Maskenabmessungen ermöglicht. Es ist die ideale Wahl für Prozesse und Anwendungen, die eine hohe Auflösung und enge Prozesskontrolle erfordern, wie hochdichte Substrate und komplizierte integrierte Schaltungskonstruktionen. Für die präzise Übertragung von Musterdiagrammen auf ein Substrat vereint das System zwei Technologien, weichgebackenen, organischen Photoresist und E-Strahl-Lithographie. Als Photoresist wird eine Art lichtempfindliches Material eingesetzt, das einer chemischen Reaktion unter Belichtung mit Licht oder Energie unterzogen wird. Mittels E-Strahl-Lithographie wird der Photolack einem Elektronenstrahl ausgesetzt, der auf das Substrat projiziert wird, um ein Muster zu bilden. SHANGHAI SSB300/30P verfügt über einen optischen Belichtungskopf mit verstellbarer Linse zur präzisen Strukturierung auf einem Substrat. Die Linse ist für eine Reihe von Fokussierungsebenen und Punktgrößen einstellbar. Der Photolack auf dem Substrat wird dann bei kontrollierter Temperatur weichgebacken, um die Oberfläche vor der Strukturierung frei von Defekten zu halten. Der Belichtungskopf wird dann entsprechend den konstruktiven Anforderungen des Substrats eingestellt und das Muster auf das Substrat projiziert. Nach Beendigung des Belichtungsprozesses folgt ein Nachbelichtungsbackvorgang, um das Muster in den Photolack einzustellen. Die Nachbelichtungstemperatur und die Zeit werden optimiert, um das Muster auf das Substrat zu entwickeln. Anschließend wird das Substrat gewaschen oder geätzt, um das entwickelte Muster auf dem Substrat wiederzugeben. SHANGHAI SSB300/30P bietet eine hervorragende Auflösung und Genauigkeit mit einem fortschrittlichen Steuergerät, das einen präzisen, wiederholbaren Prozess gewährleistet. Es verfügt über eine automatisierte In-situ-Reinigungsmaschine, um rückstandsfreie Substrate und eine einfache Wartung zu gewährleisten, um die Betriebszeit zu maximieren. Das Gerät bietet auch eine Reihe von Belichtungszeiten, um die Anforderungen verschiedener Substrate und Maskenmuster zu erfüllen. SHANGHAI SSB300/30P ist mit seinen hochzuverlässigen Prozessen und präzisen Musterfunktionen eine ideale Lösung für die mikroelektronische Fertigung. Seine Leistung, Flexibilität und Langlebigkeit machen es zur Top-Wahl für komplexe und komplizierte Geräteherstellung.