Gebraucht SHINCRON BIS-1300CNN #9263768 zu verkaufen

ID: 9263768
Weinlese: 2008
Vacuum coater (2) Cryo pumps (2) EB Sources JEOL 270 Substrate heating Crystal thickness monitor Optical thickness monitor: OPM-Z1 RF Ion source: NIS-175 2008 vintage.
SHINCRON BIS-1300CNN ist eine präzise Photoresist-Ausrüstung, die eine überlegene Ätzprofilsteuerung für moderne Waferbearbeitungsgeräte bietet. Dieses fortschrittliche System bietet sowohl chemische als auch laserbeständige Verarbeitungsfunktionen und bietet Benutzern die Flexibilität, eine Vielzahl von Wafertypen mit einer einzigen Einheit zu verarbeiten. BIS-1300CNN verwendet ein patentiertes berührungsloses Spritzverfahren, um Photolackbeschichtungen auf eine Vielzahl von Substraten wie Dünnschichttransistoren (TFTs), Siliziumscheiben und anderen verwandten Substratmaterialien genau aufzubringen. Dieses berührungslose Verfahren bietet eine gleichmäßige Oberflächenbeschichtung für konsistente Ätzprofile und überlegene Photolackhaftung. Die Maschine bietet auch eine präzise Steuerung des Lösungssprühdrucks, was wiederholbare Lithographie- und Ätzergebnisse ermöglicht. Die fortschrittlichen Photolacksysteme verfügen über eine Reihe von Prozessparametern, die leicht angepasst werden können, um die Beschichtung für anwenderspezifische Anforderungen zu optimieren. Beispielsweise kann der Bediener Größen wie externe Erwärmung, Materialfluss, Lösungssprühparameter, Substrattemperatur und Breite anpassen, um gewünschte Verarbeitungsergebnisse zu erzielen. Darüber hinaus ermöglicht die vom Hersteller bereitgestellte Software eine Echtzeit-Prozessüberwachung und -kontrolle, wodurch unnötige Ausfallzeiten reduziert werden. SHINCRON BIS-1300CNN kommt mit einem intelligent gestalteten Schrank, der die Kernkomponenten und Software des Werkzeugs beherbergt. Seine kompakte Bauweise ermöglicht die Integration in bestehende Reinraumumgebungen mit minimalen Unterbrechungen. Das Asset umfasst auch eine Vielzahl automatisierter Funktionen, mit denen Benutzer wiederholbare, internationale Ergebnisse erzielen können. Dazu gehören ein dynamisches Gefäßmodell mit automatischer Druckbelastung, flexibles, zweikanaliges Timing und eine sich selbst regenerierende magnetische Filterausrüstung. BIS-1300CNN Photoresist-System bietet Anwendern eine zuverlässige und effiziente Plattform für die Waferbearbeitung mit wiederholbaren Ergebnissen. Die Prozesseinrichtung ist einfach und einfach und die integrierten Funktionen ermöglichen es Benutzern, Parameter für eine optimale Verarbeitung einfach zu steuern und anzupassen. Mit seinen fortschrittlichen Leistungsstufen und anspruchsvollen Funktionen ist SHINCRON BIS-1300CNN die ideale Wahl für moderne Waferbearbeitungsanforderungen.
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