Gebraucht SHOWA FA-7SRN #9119347 zu verkaufen

SHOWA FA-7SRN
Hersteller
SHOWA
Modell
FA-7SRN
ID: 9119347
Spin Rinse Dryer (SRD).
SHOWA FA-7SRN ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für eine Vielzahl von Anwendungen zur Übertragung von Mikrometereigenschaften auf Substratmaterialien entwickelt wurde. Im Kern arbeitet das System photolithographisch. Photolithographie verwendet Licht, um Schichten oder Muster auf einem Substrat zu erzeugen. FA-7SRN Einheit ermöglicht das Ätzen und Strukturieren von Merkmalen über das Substratmaterial. Dazu wird in mehreren Schritten gemustert. Zunächst wird das Substratmaterial mit einem Photolackmaterial bedeckt. Anschließend wird eine Fotomaske über das Substrat gelegt, die das gewünschte Merkmalsmuster enthält. Licht wird durch die Photomaske geleitet und belichtet und härtet das Photolackmaterial in den Bereichen, die Teil des Merkmals werden. Es ist wichtig, dass das Licht sowohl stark als auch von der richtigen Wellenlänge ist, um das Photolackmaterial genau abzuleiten. Sobald das Feature gehärtet ist, ist es dann vor jedem nachfolgenden Ätzen oder Wasserkontakt geschützt. Ein Ätzmittel wird verwendet, um den Photolack zu entfernen, der die Bereiche um das KE abdeckt und das Substratmaterial belichtet. Dieses Verfahren wird in Schichten durchgeführt, wobei für jede Schicht zusätzliche Photomasken verwendet werden. Schließlich wird das gesamte Muster auf das Substratmaterial übertragen. SHOWA FA-7SRN Maschine verwendet fortschrittliche Software und eine leistungsstarke Lampe, um die Geschwindigkeit und Genauigkeit des Photolithographie-Prozesses zu erhöhen. Das Tool bietet Benutzern auch die Flexibilität, verschiedene Arten von Photomasken zu verwenden oder ihr eigenes benutzerdefiniertes Maskendesign zu erstellen. All diese Merkmale ermöglichen eine präzise Strukturierung, die für eine Vielzahl von Anwendungen wie die Herstellung von Leiterplatten oder mikrofluidischen Chips verwendet werden kann. Insgesamt ist FA-7SRN ein leistungsstarkes Werkzeug, das es Anwendern ermöglicht, Funktionen auf Mikrometerebene auf eine Vielzahl von Substratmaterialien zu übertragen. Seine umfassenden Funktionen und fortschrittliche Software machen es zu einem idealen Werkzeug für jede Anwendung, die präzise Musterung erfordert.
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