Gebraucht SHOWA SFE-6130D #9020782 zu verkaufen

SHOWA SFE-6130D Photoresist Equipment ist ein vollautomatisches, integriertes mehrstufiges Verfahren, das entwickelt wurde, um elektronische Komponenten zu entwickeln, zu mustern und zu ätzen und integrierte Mikroschaltungen für verschiedene Anwendungen zu schaffen. Das System nutzt eine Kombination aus elektrochemischen, thermischen und chemischen Prozessen, um ultrafeine, hochauflösende Mikrostrukturen zu schaffen. SFE-6130D besteht aus einer Lichtquelle, einer Maskier-/Beleuchtungseinheit, einem Fotolackdruckkopf, einem Entwickler, einem Inspektor und einem Medienprozessor (Ätzmedien). Die Maskierungs-/Beleuchtungseinheit enthält Präzisionsoptiken, die Licht von der Lichtquelle genau auf ein elektronisches Bauteil fokussieren, das auf einer photolitographischen Bühne montiert ist. Der Fotolackdruckkopf trägt dann ein lichtempfindliches Material (Photoresist) auf, um einen Bereich des elektronischen Bauelements selektiv zu strukturieren. Nach dem Aufbringen des Photolacks wird dieser dann vorgebrannt und ultraviolettem Licht ausgesetzt, um die Löslichkeit (Ätzbarkeit) der nicht beleuchteten Bereiche zu verringern. Mit einem Entwickler werden dann die nicht beleuchteten Bereiche des Photolacks entfernt, wobei nur die gewünschten Bereiche belichtet bleiben. Um die Qualität des photolithographischen Musters zu überprüfen, wird in der Regel ein Inspektor verwendet, um das Muster auf Fehler oder andere Unvollkommenheiten zu überprüfen. Der letzte Schritt besteht darin, unerwünschtes Material vom elektronischen Bauteil wegzuätzen, wodurch die gewünschte Mikrostruktur entsteht. Für diesen Schritt liefert ein Ätzmedienprozessor eine Ätzlösung, wie Salzsäure, mit der das unerwünschte Material chemisch weggeätzt wird. Das Gerät bietet auch eine optionale Pfostenätztrocknungsstation und eine Oberflächenkonditionierungsmaschine für die Oberflächenreinigung und -veredelung. Insgesamt ist SHOWA SFE-6130D Photoresist Tool für die zuverlässige, qualitativ hochwertige Produktion von elektronischen Komponenten konzipiert, unter Beibehaltung enger Toleranzen und hoher Auflösung. Das Photolithographie-Verfahren ermöglicht eine erhöhte Flexibilität im Design, Effizienz in der Produktion und verbesserte Kosteneinsparungen bei der Fertigung. Zudem bietet das Asset durch sein hochmodernes, integriertes Prozessmodell den zusätzlichen Nutzen automatisierter Prozesse.