Gebraucht SITE SERVICES Tractrix XP #9194176 zu verkaufen

SITE SERVICES Tractrix XP ist eine fortschrittliche, automatisierte Photolackausrüstung, die für die Bereitstellung innovativer und kostengünstiger Belichtungslösungen für Halbleiterfertigungsanlagen entwickelt wurde. Tractrix XP bietet hohe Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Prozesseffizienz, die optimiert sind, um die Produktionskosten zu senken. Das System besteht aus einem Substrathandhabungsmodul und einem Belichtungsmodul. Das Substrat-Handhabungsmodul ist so ausgelegt, dass eine Intrapositionierung der Substrate mit höchster Präzision möglich ist. Das hochmoderne, mechanisch robuste Modul verfügt über zwei Hochgeschwindigkeitsstufen, die es ermöglichen, x-y-Translations-, Rotations- und lineare oder schwenkbare Waferausrichtungsbewegungen durchzuführen. Dieses Modul gewährleistet Genauigkeitsniveaus von bis zu 0,001 Grad und Wiederholbarkeit von bis zu 0,01 Grad und ermöglicht so eine präzise Ausrichtung und Registrierung von Photomasken für die Photolithographie-Prozesse. Das Belichtungsmodul ist eine umfassende Bestrahlungsquelle zum Aufbringen von ultraviolettem Licht auf Substrate. Die Einheit verfügt über eine glockenförmige Integrationskammer, die Linsenverzerrungen weiter reduziert und eine bessere Genauigkeit und Wiederholbarkeit bietet. Mit fortschrittlichen Spiegeln und Reflektoren ausgestattet, liefert SITE SERVICES Tractrix XP präzise Dosen von UV-Strahlung auf die Substrate. Die Quelle ist einstellbar und kann auf die erforderliche Auflösung und Intensität eingestellt werden, um spezifische Prozessanforderungen zu erfüllen. Tractrix XP bietet auch eine Reihe von zusätzlichen Vorteilen wie eine Umweltkontrollmaschine, ein Sprühkühlwerkzeug, Sicherheitssensoren und eine Kalibrieranlage. Das Modell wurde auch als kompatibel mit mehreren anderen automatisierten Systemen konzipiert, die seine Vielseitigkeit weiter ausbauen. Abschließend bietet SITE SERVICES Tractrix XP hochmoderne Photolithographie-Funktionen, die kostengünstige und präzise photolithographische Prozesse ermöglichen. Die hohe Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Kompatibilität mit anderen Systemen macht es ideal für jede Halbleiterherstellungsanlage.