Gebraucht SOLITEC 1111 #9123999 zu verkaufen

SOLITEC 1111 Photoresist Equipment ist ein hochmodernes Photoresist-Tool, das in der Halbleiterindustrie zur Herstellung von Mikrochips und anderen integrierten Schaltungen verwendet wird. Dieses System verwendet fortgeschrittene bildgebende Techniken, um die Oberfläche eines Substrats mit einem Photolack zu beschichten, der dann ultraviolettem (UV) Licht oder anderer Strahlung ausgesetzt wird. Diese Belichtung bewirkt, dass der Photolack in bestimmten Lösungsmitteln unlöslich wird, was Prozesse wie kritisches Ätzen und Lithographie durch eine Reihe von sehr gezielten Schritten ermöglicht. 1111 Einheit verwendet fortschrittliche bildgebende Technologie, um das Substrat genau zu beschichten, die gewünschten Bereiche vor dem Ätzen zu schützen. Die erste Photolackschicht ist schleuderbeschichtet, was eine gleichmäßige Beschichtung ergibt. Zur Vervollständigung des Abbildungsprozesses wird dann die exakte Belichtungsmenge der UV-Lichtquelle gemessen. Alle Komponenten sind in dieser Maschine enthalten, so dass es einfach zu bedienen und zuverlässig. Das Werkzeug enthält auch einen Resist-Applikator, mit dem Benutzer gleichmäßig Photoresists auf das Substrat auftragen können. Der Applikator ist in der Lage, die Dicke der Photolackschicht zu steuern. Dies ist entscheidend für eine optimale Abbildung des Substrats. Es gibt auch mehrere Zubehörteile, die verwendet werden können, um die Genauigkeit und Fähigkeiten der Anlage weiter zu verbessern. Darüber hinaus ermöglicht die im Modell enthaltene Software eine einfache Navigation ihrer Funktionen. Alle Parameter für die Resist-Applikation, den Bildgebungsprozess und den Ätzprozess können über die intuitive Benutzeroberfläche angepasst und überwacht werden. So können Anwender ihre Prozesse ganz einfach auf die genauen Anforderungen der jeweiligen Anwendung abstimmen. SOLITEC 1111 Photoresist Equipment ist ein ideales Werkzeug für alle, die integrierte Schaltungen, Chips und andere mikroelektronische Komponenten herstellen möchten. Seine fortschrittliche Abbildungstechnologie gewährleistet eine genaue Beschichtung der Substrate, die dann die gewünschten Bereiche der richtigen Menge an UV-Licht oder Strahlung aussetzt. Der Resist Applikator bietet Anwendern die Flexibilität und Präzision, das Substrat genau zu beschichten, während die leistungsstarke Software und das Zubehör ein umfassendes und zuverlässiges System bieten.