Gebraucht SOLITEC 5100 #293590413 zu verkaufen

SOLITEC 5100 Photoresist Equipment ist eine Hochleistungsplattform, die speziell für die Entwicklung präziser und komplexer Strukturen in der Mikroelektronikindustrie entwickelt wurde. Dieses Photolacksystem ist mit mehreren Schichten kompatibel und verwendet eine einzigartige Dualstrahl-Lithographieeinheit, um Nanostrukturen mit hoher Auflösung, Geschwindigkeit und Genauigkeit zu erstellen. Es verwendet sowohl 248nm als auch 193nm Laserstrahlung, um das gewünschte Muster gleichmäßig auf das Substrat zu übertragen, was eine schnellere und präzisere Herstellung kleiner Strukturen ermöglicht. Die Maschine verwaltet hohe Durchsatzraten von bis zu 8 Wafern pro Sekunde und ihr Desktop verfügt über ein automatisiertes Wafer-Handling-Tool zur präzisen Positionierung und Substratübertragung. Das Asset unterstützt auch den doppelseitigen und horizontalen Betrieb und bietet Funktionen für komplexere Anwendungen. 5100 unterstützt die neuesten Resists zur Strukturierung hochpräziser Mikrostrukturen wie Photoelektroplattieren und Plasmaätzen. Es verfügt über eine umfassende Benutzeroberfläche, die eine schnelle Einrichtung, Debugging und Visualisierung verschiedener Ebenen des Prozesses ermöglicht. Der gesamte Lithographieprozess wird in einem einzigen Programm abgewickelt, wodurch das Fehlerpotenzial beim Übergang zwischen Prozessen eliminiert wird. Das Modell umfasst Funktionen wie hochauflösende Bildgebung und Überdruckabtastung, die eine präzise Strukturierung kleiner Strukturen ermöglichen. Dies wird durch die diffuse Lichtquelle erreicht, die dafür sorgt, dass die strukturierten Merkmale knackig, genau und reproduzierbar sind. Die Resist-Wärmespeicherung optimiert auch die Mustereinheitlichkeit über das gesamte Substrat. Die Präzision des Druckprozesses wird durch den Fast Aligner des Geräts gewährleistet, der den Fokus und die Neigung automatisch kalibriert und die Systemleistung und Ausrichtgenauigkeit erhöht. SOLITEC 5100 verfügt auch über Prozesssteuerungsfunktionen, die die Überwachung und Verfolgung des Photolithographie-Prozesses in Echtzeit ermöglichen. 5100 Photolackeinheit ist eine ideale Wahl für die Strukturierung von Mikrostrukturen, und aufgrund seiner hohen Leistungsfähigkeit und Präzision wird es in einer Vielzahl von Branchen verwendet. Die fortschrittliche Technologie, die benutzerfreundliche Schnittstelle und der zuverlässige Betrieb machen es zu einer idealen Wahl für Unternehmen, die hochpräzise Mikrostrukturen mit hoher Geschwindigkeit und Genauigkeit herstellen möchten.