Gebraucht SOLITEC 5110-D #9270248 zu verkaufen

SOLITEC 5110-D Photoresist Equipment ist ein Photolithographie-Tool, das bei der Erstellung integrierter Schaltungen verwendet wird. Dieses System soll es Herstellern ermöglichen, nanoskalige Strukturen effizient und präzise zu erstellen. Das Gerät verwendet eine dreikanalige Lichtquelle und fortschrittliche Software, um sich an die Komplexität der Prozessanforderungen anzupassen, einschließlich einer Vielzahl von Dotierungskonzentrationen und Belichtungszeiten. Photolithographische Systeme bestehen aus mehreren Teilen, die für die Photolackverarbeitung von Substraten wesentlich sind. Die Lichtquelle ist der erste Teil und ist verantwortlich für die Emission von UV-Licht in drei Frequenzbändern, 365 nm, 405 nm und 436 nm. Dieses Licht wird dann von einem Satz Linsen gesammelt und mit einem Retikel auf die Probe fokussiert. Das Retikel wird von einem Rechner gesteuert und ist für die kritische Strukturierung des Substrats verantwortlich. Die Maschine kann auch zusammen mit einem E-Beam-Lithographiewerkzeug verwendet werden, was eine weitere Musterveredelung ermöglicht. Zusätzlich zu den direkten Strukturierungsmöglichkeiten von SOLITEC 5110D gibt es zusätzliche Funktionen, die es ideal für nanoskalige Strukturen auf Produktionsebene machen. Eine automatisierte Sequenz von Belichtung und Strukturierung ist möglich, wodurch eine manuelle Einstellung der Lichtquelle entfällt. Darüber hinaus verfügt es über einen integrierten Wafer-Stepper, der die Anlaufzeit beim Arbeiten mit mehreren Substraten reduziert. Zur Sicherheit enthält das Werkzeug auch einen Notabschalter. Um den Musterprozess zu steuern, kann ausgeklügelte Software verwendet werden, um zahlreiche Parameter zu manipulieren, einschließlich Belichtungszeit, Intensität, Arbeitszyklus usw. Diese Software basiert auf einem klassischen Algorithmus auf Produktionsebene, der eine präzise Steuerung des gesamten Photolackprozesses ermöglicht. Zusätzlich kann die Software so kalibriert werden, dass die Resistschicht auf dem Substrat exakt lokalisiert wird, wodurch verschwendete Ressourcen durch Wafer-Fehlausrichtung reduziert werden. Insgesamt ist 5110-D ein unschätzbares Werkzeug bei der Herstellung mikro- und nanoskaliger Strukturen. Es ist einstellbare Drei-Kanal-Lichtquelle und integrierte Wafer-Stepper machen es gut geeignet für die Produktion-Nanofabrikation. Der mitgelieferte Unfallabschalter bietet Sicherheit für den Anwender. Darüber hinaus löst die ausgeklügelte Software viele der Komplikationen der Musterung und reduziert die Notwendigkeit einer manuellen Einstellung der Lichtquelle. Dies in Kombination mit seinen präzisen Musterfunktionen macht es zu einer idealen Wahl für die Herstellung hochwertiger Nanostrukturen.