Gebraucht SOLITEC 5110C #9043475 zu verkaufen

SOLITEC 5110C Photoresist Equipment ist ein vollständig integriertes Photolithographiesystem zur präzisen Abscheidung und Ätzung chemisch resistenter Polymerschichten auf einem Substratmaterial. Es wird zur hochauflösenden Musterübertragung und zur aktiven Schichtentwicklung verwendet. Das Gerät basiert auf einer großen digitalen Flachbildverarbeitungsmaschine mit Präzisionsmasken, einem vakuumbasierten Bühnenwerkzeug und einem einzigartigen Tauchlackierverfahren. SOLITEC 5110-C Asset ist in der Lage, mehrere Schichten gleichzeitig zu übertragen und zu ätzen. Es ist in zwei definierten Konfigurationen verfügbar - dem 5120S und dem 5140C. Das 5120S Modell ist für eine kleine Anzahl von Schichten konzipiert, mit Kammergrößen bis zu 10 „x10“, während die 5140C Ausrüstung hat eine erhöhte Größe, mit Kammergrößen bis zu 60 „x30“. 5110C System ist mit einer fest integrierten Steuereinheit für die Steuerung der gesamten Maschine ausgelegt. Dieser Controller verbindet das digitale Bildgebungswerkzeug mit dem Bühnengerät. Darüber hinaus enthält es mehrere Algorithmus-Controller, um einen reibungslosen Betrieb zu gewährleisten, indem der Abscheidungsprozess und andere kritische Parameter wie Ätzrate, Schichtdicke, Substrattemperatur, Gasflussraten usw. gesteuert werden. 5110-C Modell umfasst auch eine proprietäre Laser Direct Imaging (LDI) Technologie, die es ermöglicht, hochauflösende Maskenmuster zu erzeugen. Dies wird durch eine Kombination von LDI und Photolackverfahren realisiert. Die LDIs werden durch UV-Belichtung mit einer hochpräzisen Maske strukturiert und dann durch eine vakuumbasierte Ausrüstung auf das Substrat übertragen. SOLITEC 5110C sorgt für den Mustertransfer und die Strukturierung von Mustern bis zu 50nm und liefert auf jeder Schicht ein genaues und wiederholbares Photolackmuster. Das System bietet auch einen hohen Grad an Kantendefinition und hohe Musterdichte, so dass es eine sehr zuverlässige und kostengünstige Lösung für die Produktion Photolithographie. Neben der Herstellung einer Photolackschicht können SOLITEC 5110-C für eine Vielzahl von Sekundärprozessen eingesetzt werden, einschließlich Chipbonden, Polieren und Verkapseln sowie zur Messung der fertigen Produkteigenschaften. Insgesamt ist 5110C Photoresist Unit eine leistungsstarke und hochzuverlässige Lösung für hochauflösende Photolithographie, die in mehreren Substraten und Dicken eingesetzt werden kann, was es zu einer ausgezeichneten Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen macht.