Gebraucht SRD CT-302 #9301059 zu verkaufen

SRD CT-302 ist ein Photoresist-Gerät, das zum Strukturieren und Abscheiden dünner Schichten (bis zu 5um) von Resist auf Substraten verwendet wird. Es ist ein integriertes Lithographiesystem, das DUV-Strahlungsquellen verwendet, mit einer Wellenlänge von bis zu 193nm, um Photoresists so dünn wie 5 um zu belichten. Diese Einheit verfügt über einen Schrittmotor, eine einstellbare Quelle und eine motorisierte Steuerung, die eine präzise Belichtung der Substrate ermöglicht. Die Maschine enthält auch eine ASML-Beschichtungs-/Entwicklereinheit, die sowohl positive als auch negative Filme benetzen und entwickeln kann. Dies ermöglicht die Erstellung hochgenauer und komplexer Muster. Der Schrittmotor ermöglicht die exakte Steuerung von Fokus- und Belichtungsbereich sowie die Bereitstellung von Echtzeit-Prototyping-Funktionen. Die einstellbare Quelle im Werkzeug ist in der Lage, die Resisteigenschaften detailliert zu analysieren, was eine Feinabstimmung des Musterprozesses ermöglicht. Die Anlage ist mit einem hochempfindlichen optischen Sensor ausgestattet, um Verschiebungen der Substratposition und der Belichtungszeit zu erkennen. Es ist auch mit einer anspruchsvollen motorisierten Steuerung für präzise Bewegung des Schrittmotors und verstellbare Quelle ausgestattet. CT-302 ist benutzerfreundlich gestaltet, mit einer intuitiven, benutzerfreundlichen grafischen Benutzeroberfläche (GUI). Dies ermöglicht die präzise Steuerung einer Vielzahl von Einstellungen und Prozedurparametern. Darüber hinaus garantieren seine zuverlässigen und langlebigen Komponenten konsistente und wiederholbare Ergebnisse. Dieses Fotolackmodell ist auch für Sicherheit und einfache Wartung konzipiert. Es verfügt über mehrere integrierte Sicherheitsfunktionen, wie Not-Aus-Tasten und Kameras, um die Ausrüstung zu überwachen. Seine Teile sind auch für die Wartung leicht zugänglich, so dass eine schnelle Wartung bei Bedarf möglich ist. SRD CT-302 vereint alle Präzision, Genauigkeit und Leistung, die für fortschrittliche Lithographie-Prozesse erforderlich sind. Es ist perfekt für die Herstellung von fehlerfreien Dünnschichtschichten und ist eine große Bereicherung für jedes gut ausgestattete Labor.