Gebraucht SRD CT-303 #9301058 zu verkaufen

SRD CT-303 ist eine Photolackausrüstung, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Das System baut auf einem herkömmlichen negativen Photolackmaterial auf, das ultraviolettem Licht ausgesetzt ist, um ein Muster zu erzeugen, das auf das Substrat übertragen wird. CT-303 Einheit verwendet zwei flüssige Komponenten, einen photoaktiven und einen inaktiven Entwickler, die Flexibilität bei der Entwicklung von feinen Toleranzen, subtilen Oberflächendetails und komplizierten Mustern bieten. Die photoaktive Komponente ist ein lichtempfindliches Acrylatpolymer, formuliert durch SRD, mit spezifischen Molekulargewichten, die eine genaue Resistdickensteuerung, eine überlegene Auflösung und ein höheres Kontrastbild ermöglichen. Dieses photoaktive Material wird durch eine Lichtsperrschranke vom inaktiven Entwickler getrennt, wodurch eine Maschine entsteht, die eine schnell einstellbare Belichtungszeit für das UV-Licht ermöglicht. Nach Bestimmung der Belichtungs- und Umverteilungszeit wird das Substrat mit dem photoaktiven Material beschichtet. Mit den gleichen Lichtbelichtungstechniken wie bei herkömmlichen Photoresists wird dann das gewünschte Muster in der photoaktiven Schicht erzeugt, da die unbelichteten Anteile vom inaktiven Entwickler weggewaschen werden. Die in SRD- CT-303 erzeugten Muster können von 0,2 bis 3,0 Mikrometer reichen und können verwendet werden, um Maskenschichten mit weniger als 1 Mikrometer dicken Schaltungsleitungen zu erstellen. CT-303 Tool bietet gegenüber seinen Mitbewerbern mehrere Vorteile. Da dieses Gut für den Einsatz auf mehreren verschiedenen Substratmaterialien konzipiert ist, kann der Widerstand auf organischen, Verbund- und Oxidmaterialien mit Leichtigkeit arbeiten, wodurch der Wechsel zwischen Produkten je nach Material entfällt. Dieses Modell verfügt außerdem über eine hervorragende optische Transparenz, die die Erzeugung dünner Schichten und eine feinere Auflösung ermöglicht. Insgesamt ist SRD CT-303 eine zuverlässige und leistungsstarke Photolackausrüstung, die komplizierte Muster bis auf wenige Mikrometer erzeugen kann. Mit überlegener Auflösung, einem beeindruckenden Übertragungsverhältnis und einem hervorragenden Kontrast zwischen belichteten und unbelichteten Schichten eignet sich das System für viele verschiedene Substratmaterialien und Anwendungen.