Gebraucht SSC BPE-2708-SP #9396918 zu verkaufen

SSC BPE-2708-SP ist eine Photoresist-Ausrüstung, die vom SSC entwickelt wurde. Es ist ein hocheffizientes, voll ausgestattetes System für die Verarbeitung von fortschrittlichen Substraten wie metallischen, Glas und organischen Materialien. Es ist eine maskenlose, geteilte Strahl und Nähe begrenzt maskenlose Lithographie-Einheit. Diese Fotolackmaschine verfügt über ein sehr fortschrittliches Werkzeugdesign mit einer einzigartigen mehrstufigen Lithographiemethode. Es setzt einen maßgeschneiderten Quarzglas-Projektionsspiegel ein, der Verzerrungen aus der vorverarbeiteten Resistschicht entfernt. Dies gewährleistet eine gleichmäßige Bilderzeugung und eine verbesserte Ausrichtung auf das Zielmaterial. Das Asset arbeitet mit einem hochauflösenden Ausrichtungsmodell, das Substratfehlstellungen schnell identifiziert und diese automatisch korrigiert, um sicherzustellen, dass Ihre Substrate genau abgebildet werden. Die Photoresist-Ausrüstung ist mit einer breiten Palette von Funktionen für eine optimale Verarbeitung von fortschrittlichen Substraten gebaut. Es verfügt über zwei unterschiedliche Photolacksysteme: eines zur Verarbeitung dicker Substrate und das andere zur Verarbeitung dünner Filme. Das System verfügt auch über eine Reihe von Software-Tools, die maskenlose direkte Schreiblithographie und die Nähe begrenzte maskenlose Lithographie ermöglichen. Darüber hinaus verfügen die Systeme über hochpräzise Probenbewegung und Waferaufbereitung. Die Einheit kann eine maximale Probengröße von 4 "aufnehmen und verfügt über einen einstellbaren Belichtungsbereich mit präziser laserinduzierter Strukturierung. Belichtungsauflösungen können so hoch wie 9500ppi sein, was eine hochauflösende Abbildung kleiner Substratmerkmale ermöglicht. Es kommt auch mit einer Kühlmaschine, um effizientere Belichtungen zu ermöglichen, wodurch der Gesamtdurchsatz und die Strahlstabilität verbessert werden. Insgesamt ist BPE-2708-SP ein hochentwickeltes und effizientes Photolackwerkzeug, das speziell für die Verarbeitung fortschrittlicher Substrate entwickelt wurde. Sein funktionsreiches Design ermöglicht eine schnelle Substratverarbeitung mit präzisen Belichtungen und bietet eine hervorragende maskenlose Direct-Write-Bildauflösung für Bilder mit höherer Genauigkeit. Sein einzigartiges Design, kombiniert mit seinen Software-Tools, machen dieses Photoresist-Asset zu einer idealen Wahl für High-End-Anwendungen.