Gebraucht SSE Maximus 804 #293633410 zu verkaufen

ID: 293633410
Wafergröße: 2"-6"
Coater / Developer system, 2"-6" Option: Resist syringe (3) Media tanks: EBR, CD26 (Developer) HMDS Station (2) Hotplates Cool plate Video pre aligner Proximity wafer handler on hotplate: 0 mm - 11 mm Robot wafer handler Coater: EBR and BSR Maximum coating speed: 6000 RPM Maximum developing speed: 6000 RPM Developer: BSR Developer nozzles: Pray Puddle (2) Resist pumps: SPR 700 1.2 AZ4533 Hot plate: Temperature uniformity and control: +0.5°C at 100°C Maximum temperature: 250°C Cool plate: Temperature uniformity and control: +0.5°C at 20-30°C Spin process uniformity: Photoresist uniformity (Across wafer): <15 Å (1 Sigma) Photoresist uniformity (Wafer-to-wafer): <20 Å (1 Sigma).
SSE Maximus 804 ist eine zuverlässige und benutzerfreundliche Photolackausrüstung, die für den Einsatz von Photolackmaterialien in der Herstellung von Halbleiter- und Elektronikkomponenten entwickelt wurde. Das System ist in der Lage, hohe Seitenverhältnisse präzise zu bilden. Es nutzt fortschrittliche Technologie, um hochwertige Bilder ohne die Notwendigkeit von extrem feinen Details zu produzieren. Maximus 804 Einheit besteht aus drei Hauptkomponenten - Belichtungsvorrichtung, Transfervorrichtung und Entwicklungsvorrichtung. Das Belichtungsgerät basiert auf einer Digital-Direct-Imaging-Maschine (DDI) mit einem Laserdioden-Array, das eine Hochgeschwindigkeitsbildgebung ermöglicht. Die Übertragungseinrichtung erleichtert die Übertragung der Bilder auf das eigentliche Photolacksubstrat durch optische oder thermische Prägung. Die Entwicklungsvorrichtung basiert auf einem Eintauch- oder Sprühentwicklungsverfahren, das zur Optimierung der Abbildungsergebnisse für verschiedene Photolackmaterialien eingestellt werden kann. Das Werkzeug ist in der Lage, mit einer breiten Palette von Photolackmaterialien zu arbeiten und kann verschiedene Funktionsgrößen von Mikron bis Millimeter unterstützen, um Verarbeitungsparameter zu optimieren. Es ist für verschiedene Lithographieverfahren wie Kontakt-, Schritt-, Projektions- und Tiefenreaktivionenätzen (DRIE) konzipiert. Mit mehreren Betriebsmodi, wie manuell, halbautomatisch oder vollautomatisch, ermöglicht das Asset Benutzern, den Modus zu wählen, der am besten für ihre Bedürfnisse geeignet ist. Auch das Modell SSE Maximus 804 ist aufgrund seiner hochwertigen Komponenten und Konstruktion sehr zuverlässig und langlebig. Es verfügt über modernste mikroelektromechanische Systeme (MEMS) basierte optische Baugruppen, die gegen mechanische Stöße, Überhitzung und Staub beständig sind. Mit seiner leistungsstarken Controller-Schnittstelle ist die Ausrüstung für industrielle Einstellungen gut geeignet und sorgt bei längerer Nutzung für konstante Leistung. Insgesamt ist das Maximus 804-System aufgrund seiner zuverlässigen Leistung, fortschrittlicher Technologie und einer breiten Palette von Betriebsmodi eine ideale Wahl für verschiedene Anforderungen an Photoresist-Anwendungen. Es erzeugt hochwertige Bilder und sorgt für eine genaue Bildung von Eigenschaften mit hohem Seitenverhältnis. Darüber hinaus ist es durch sein benutzerfreundliches Design, umfangreiche Optionen und hohe Zuverlässigkeit eine attraktive Lösung für kleinere Produktionsanforderungen und große Fertigungsanforderungen.
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